Investigation of LB monolayers of arachidic acid with the use of atomic force microscopy

• Autorzy: Chrobak K , Grobelny J. , Cichomski M. , Piwoński I.

Warianty tytułu

PL

Badanie monowarstw LB kwasu arachidowego z użyciem sil atomowych

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W przedstawianej pracy scharakteryzowano osadzanie, morfologię i odporność na zużycie warstw LB kwasu arachidowego na mice. Podczas eksperymentu oszacowano wpływ trzech różnych wartości napięcia powierzchniowego na morfologię końcowej warstwy. Sprawdzono trwałość warstwy LB na zużycie w testach na „zdzieranie" z użyciem mikroskopu sil atomowych oraz zmierzono grubość warstwy filmu.

EN

Deposition characteristics, film morphology and wear resistance of arachidic acid Langmuir-Blodgett (LB) films on mica were investigated. The experiment was carried out at three different surface pressures and its influence for final film morphology was evaluated. The wear resistance in scratch and durability tests with the use of Atomic Force Microscopy was verified and the film thickness was measured.

Słowa kluczowe

PL

AFM; kwas arachidowy; monowarstwa; warstwa LB; tarcie

EN

AFM; arachidic acid; monolayer; LB film; friction

• Wydawca: Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
• Czasopismo: Tribologia
• Rocznik: 2003
• Tom: nr 2
• Strony: 159--165
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., rys.

Twórcy

autor

Chrobak K

• University of Lodz, Department of Chemical Technology and Environmental Protection , 163 Pomorska St., 90-236 Lodz, Poland

autor

Grobelny J.

• University of Lodz, Department of Chemical Technology and Environmental Protection , 163 Pomorska St., 90-236 Lodz, Poland

autor

Cichomski M.

• University of Lodz, Department of Chemical Technology and Environmental Protection , 163 Pomorska St., 90-236 Lodz, Poland

autor

Piwoński I.

• University of Lodz, Department of Chemical Technology and Environmental Protection , 163 Pomorska St., 90-236 Lodz, Poland

Bibliografia

• 1. Peng J. B., Barnes G. T., Gentle I. R., Advances in Colloid and Interface Science 91 (2001) 163-219.
• 2. Pignataro B., Sardone L., Marletta G., Materials Science and Engineering C 22 (2002) 177-181
• 3. Girard K. P., Quinn, J. A., Vanderlick, T. K., Thin Solid Films 371 (2000) 242-248.
• 4. Zhi Yu Pan, Xiao Geng Peng, TiJin Li, JuZheng Liu, Applied Surface Science 108 (1997) 439-447.
• 5. Nechev G., Hibino M., Hatta I., Colloids and Surfaces A.: Physicochemical and Engineering Aspects 166 (2000) 1-6.