Wykorzystanie materiałów fotoutwardzalnych w procesach szybkiego wytwarzania

• Autorzy: Górski F. , Wichniarek R.

Warianty tytułu

EN

Application of photohardening materials in rapid prototyping

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono możliwości, jakie wiążą się z wykorzystaniem materiałów foto-utwardzalnych (fotopolimerów) w procesach szybkiego wytwarzania prototypów. Opisano budowę i właściwości fotopolimerów oraz możliwości ich modyfikacji w celu uzyskania pożądanych dodatkowych właściwości. Zamieszczono przegląd metod rapid prototyping wykorzystujących fotopolimery. Zaprezentowano również zestawienie wybranych, nowoczesnych fotopolimerów i opisano ich właściwości, także w porównaniu z innymi materiałami wykorzystywanymi do szybkiego wytwarzania prototypów w celu wykazania użyteczności materiałów fotoutwardzalnych i technik je wykorzystujących do szybkiego wytwarzania prototypów.

EN

This paper presents possibilites related with application of photohardened materials (photopo-lymers) in rapid prototyping. Composition and properties of photopolymers were described, along with modification possibilites for obtaining new properties. Paper also contains a short review of RP methods involving photopolymers. Several selected modern photopolymer materials were characterised, also in comparison with other RP materials, aiming to demonstrate usefulness of photopolymers and techniques which use them for rapid prototyping and manufacturing.

Słowa kluczowe

PL

szybkie prototypowanie; fotopolimery; stereolitografia

EN

rapid prototyping; photopolymers; stereolithography; rapid manufacturing

• Wydawca: Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej
• Czasopismo: Zeszyty Naukowe Politechniki Poznańskiej. Budowa Maszyn i Zarządzanie Produkcją
• Rocznik: 2010
• Tom: Nr 13
• Strony: 25--34
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., 6 rys., 1 tab

Twórcy

autor

Górski F.

autor

Wichniarek R.

• Politechnika Poznańska, Instytut Technologii Mechanicznej,

Bibliografia

• [1] Adams L., Materials play the part, applianceDESIGN, 10/2008.
• [2] Huang Y.-M., Kuriyama S., Jiang C.-P., Fundamental study and theoretical analysis in a constrained-surface stereolithography system, International Journal of Advanced Manufacturing Technology, 2004.
• [3] Kajihara Y., Takeuchi T., Takahashi S., Takamasu K., Development of a nanostereolithography system using evanescent light for submicron fabrication, American Society for Precision Engineering 2006.
• [4] Thian S.C.H., Tang Y., Fuh J.Y.H., Wong Y.S., Lu L., Loh H.T., Micro-rapid prototyping via multi-layered photo-lithography, International Journal of Advanced Manufacturing Technology, 2006.
• [5] www.3 dsystems.com, dostęp: 24.02.2010
• [6] www.additive3d.com, dostęp: 24.02.2010
• [7] www.dsm.com, dostęp: 24.02.2010
• [8] www.engineershandbook.com, dostep: 24.02.2010
• [9] www.kaiser3d.com, dostęp: 24.02.2010
• [10] www.objet.com, dostęp: 24.02.2010