Analytical characteristics of a new amperometric sulfur dioxide sensor

• Autorzy: Chachulski B. , Gębicki J.

Warianty tytułu

PL

Analityczne charakterystyki nowego, amperometrycznego czujnika ditlenku siarki

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

A new type of amperometric sulfur dioxide sensor based on the three-electrode system has been designed. The working electrode of the sensor has been prepared by vacuum sublimation deposition directly onto the membrane surface. Analytical characterization of the sensor has been performed for microporous Teflon®and Nafion® membranes. Both static and dynamic parameters of these sensors filled with internal electrolyte solutions containing dimethylsulfoxide (DMSO) have been presented and compared.

PL

Zaprojektowano i skonstruowano amperometryczny czujnik ditienku siarki wyposażony w układ trój elektro do wy. Elektroda pracująca czujnika była napylona bezpośrednio na powierzchnię membrany. Zbadano charakterystyki czujnika z membranami z mikroporo-watego Teflonu® oraz Nafionu®. Porównano parametry statyczne i dynamiczne tych czujników wypełnionych roztworami elektrolitów wewnętrznych zawierających dodatek DMSO.

Słowa kluczowe

EN

sulphur dioxide; amperometric sensor; dimethylosulfoxide; Nafion

PL

ditlenek siarki; czujnik amperometryczny; nafion

• Wydawca: Komitet Chemii Analitycznej PAN
• Czasopismo: Chemia Analityczna
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 51, No. 1
• Strony: 135--146
• Opis fizyczny: Bibliogr. 22 poz.

Twórcy

autor

Chachulski B.

autor

Gębicki J.

• Department of Chemical and Process Engineering, Chemical Faculty, Gdańsk University of Technology, ul. Narutowicza 11/12, 80-952 Gdańsk, Poland,

Bibliografia

• 1.Hobbs B.S, Tantram A.D.S. and Chan-Henry R, in: Techniques and Mechanisms in Gas Sensing,IOP Publ. Ltd., Bristol, 1991, pp. 161-188.
• 2.Schiavon G, Zotti G. and Bontempelli G, Anal. Chim. Acta, 221, 27 (1989).
• 3.Podstawczyński J, Szczepaniak J. and Stankiewicz A, Pomiary; Automatyka, Kontrola, 2, 47 (1982).
• 4.Chachulski B. and Podstawczyński J, Elektronizacja, 1,20 (1995).
• 5.Chachulski B, Podstawczyński J. and Szczepaniak J, Proceedings of 12th International Congress of Chemical and process Engineering, Praha, Vol. 3, 1996, p. 112.
• 6.Chachulski B., Analyst, 123, 1141 (1998).
• 7.Chachulski B., Chem. Anal., 49, 803 (2004).
• 8.Schiavon G, Zotti G, Toniolo R. and Bontempelli G, Analyst, 116, 797 (1991).
• 9.Chiou C.-Y. and Chou T.-C, Electroanalysis, 8, 1179 (1996).
• 10.Alber K.S, Cox J.A. and Kulesza P.J, Electroanalysis, 9,97 (1997).
• 11.Chiou C.-Y. and Chou T.-C, Electroanalysis, 10, 897 (1998).
• 12.Hodgson A.W.E, Pletcher D. and Sotiropoulos S, Sens. Actuators, B 50, 181 (1998).
• 13.Hodgson A.W.E, Jacquinot P. and Hauser P.C., Anal. Chem., 71, 2831 (1999).
• 14.Hodgson A.W.E, .Jacquinot P, Jordan L.R. and Hauser P.C., Anal. Chim. Acta, 393, 43 (1999)
• 15.Chiou C.-Y. and Chou T.-C, Sens. Actuators, B 87, 1 (2002).
• 16.OpekarF. and Stulik K, Anal. Chim. Acta, 385, 151 (1999).
• 17.Knake R, Jacquinot P. and Hauser P.C., Analyst, 127, 114 (2002).
• 18.Knake R, Guchardi R. and Hauser P.C., Anal. Chim. Acta, 475,17 (2003).
• 19.Dowson G, Hauser P.C., Kilmartin P. and Wright G, Electroanalysis, 12, 105 (2000).
• 20.Hahn C, Analyst, 123, 57 (1998)
• 21.Hahn C., McPeak H., Bond A. and Clark D., J. Electroanal. Chem., 393, 61 (1995).
• 22.Namieśnik J. and Przyk E., Chem. Int. Ekol., 6, 289 (1999).