Growth of high quality diamond films on silicon substrate

• Autorzy: Benzhour K. , Nowak L. , Nowak Z. , Rozpłoch F.

Warianty tytułu

PL

Wzrost warstw diamentowych o wysokiej jakości na podłożu krzemowym

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Thin polycrystalline diamond films were deposited on prepared (100) Si substrate by hot filament chemical vapor deposition (HF-CVD). For all deposition processes, parameters as: substrate temperature, total pressure and gas flow were held on the same level. One sample was deposited using a method of three-step growth in HF-CVD chamber. Morphology investigations of diamond films using scanning electron microscopy (SEM), Raman spectroscopy (RS) and electron paramagnetic resonance (EPR) were performed. The EPR analysis revealed the presence of two kinds of paramagnetic centers related to diamond and nan-diamond phase.

PL

Polikrystaliczne warstwy diamentowe były osadzane metodą gorącego włókna z fazy gazowej (HF-CVD) na monokrystalicznym podłożu krzemowym o orientacji powierzchni (100). Temperatura podłoża, przepływy gazów i całkowite ciśnienie gazu były utrzymywane na stałym poziomie podczas wszystkich procesów osadzania. Jedna próbka była osadzana metodą trój stopniowego wzrostu w komorze HF-CVD. Morfologia i jakość uzyskiwanych warstw diamentowych były badane za pomocą elektronowej mikroskopii skaningowej (SEM), spektroskopii ramanowskiej (RS) i elektronowego rezonansu paramagnetycznego (EPR). Badania EPR ujawniły istnienie dwóch rodzajów centrów paramagnetycznych związanych z fazą diamentową i z fazą niediamentową.

Słowa kluczowe

EN

diamond films; chemical vapour deposition; scanning electron microscopy; EPR; Raman spectroscopy

PL

warstwa diamentowa; chemiczne osadzanie z pary; elektronowy rezonans paramagnetyczny; spektroskopia Ramana

• Wydawca: Wydawnictwo Górnicze Sp. z o.o.
• Czasopismo: Karbo
• Rocznik: 2003
• Tom: Nr 4
• Strony: 236--239
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz.

Twórcy

autor

Benzhour K.

autor

Nowak L.

autor

Nowak Z.

autor

Rozpłoch F.

• Instytut Fizyki Uniwersytetu Mikołaja Kopernika, ul Grudziądzka 5/7, 87-100 Toruń,