Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Thin films of polycrystalline diamond received by the HF CVD method
Języki publikacji
Abstrakty
Przedstawiono parametry procesu HF CVD i jego odmiany. Zbadano wpływ domieszkowania i polaryzacji na jakość otrzymanych warstw za pomocą spektroskopii Ramana.
Parameters of the HF CVD process (Hot Filament Chemical Vapour Deposition) and its modification were presented. The influence of doping and polarisation on the quality of received films by means of Raman spectroscopy was investigated.
Słowa kluczowe
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
71--73
Opis fizyczny
Twórcy
autor
autor
autor
- Instytut Fizyki Uniwersytetu M. Kopernika, Toruń
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPP1-0004-0099