OPTAN1 - oprogramowania do modelowania, analizy i optymalizacji urządzeń elektronicznych

• Autorzy: Bobalo Y. , Nedostup L. , Nadobko O. , Kiselychnyk M. , Lazko O.

Warianty tytułu

EN

OPTAN - Software for Modelling, Analysis and Optimization of Electronic Devices Process Improvement

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The formalization and modelling of quality control processes problem is considered. Matrix presentation of components of electronic devices quality control and maintenance modelling process is proposed. The correspondent software for complex optimization was developed. The efficacy of developed program package was shown. The peculiarities of developed software for modelling, analysis and optimization of electronic devices process improvement OPTAN1 are described.

PL

Rozważono formalizację i modelowanie problemu procesu sterowania. Przedstawiono macierz składników sterowania jakością elektronicznych urządzeń i modelowania procesów. Rozwinięto oprogramowanie związane z kompleksową optymalizacją. Pokazano użyteczność pakietu opracowanego programu. Opisano cechy charakterystyczne oprogramowania do modelowania, analizy i optymalizacji urządzeń elektronicznych OPTAN1.

Słowa kluczowe

EN

OPTAN1; computer-aided system; manufacturing process modelling

PL

OPTAN1; układ wspomagany komputerowo; modelowanie procesu wytwarzania

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2009
• Tom: R. 85, nr 4
• Strony: 59--61
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys.

Twórcy

autor

Bobalo Y.

autor

Nedostup L.

autor

Nadobko O.

autor

Kiselychnyk M.

autor

Lazko O.

• National University "Politechnika Lwowska"

Bibliografia

• [1] Бобало Ю.Я., Кіселичник М.Д., Недоступ Л.А. Системний аналіз якості виробництва прецизійної радіоелектронної апаратури.—Львів,—1996.-167 с.
• [2] Кіселичник М.Д. Моделювання та оптимізація процесів забезпечення якості .Львів: 2001. 168 с.
• [3] Lee, Sherry F., Eric D. Boskin, Hao Cheng Liu, Eddie H. Wen, and Costas J. Spanos. "RTSPC: A Software Utility for Real-Time SPC and Tool Data Analysis." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 8, no. 1, p. 17-25.
• [4] Rao, Suraj, Andrej J. Strojwas, John P. Lehoczky, and Mark J. Schervish. "Monitoring Multistage Integrated Circuit Fabrication Processes." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 9, no. 4, p. 495- 505.
• [5] Spanos, Costas J. and Raymond L. Chen. "Using Qualitative Observations for Process Tuning and Control." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 10, no. 2, p. 307-316.
• [6] Spanos, Costa J.,Hai-Fang Guo, Alan Miller, and Joanne Levine-Parrill."Real Time Statistical Process Control Using Tool Data." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 5, no. 4, p. 308-318..
• [7] Mozumder, Purnendu K. and Andrzej J. Strojwas. "Statistical Control of VLSI Fabrication Processes." IEEE Transactions on Components, Hybrids, and Manufacturing Technology, vol. 17, no. 3, p. 467-475.