Układ wyładowczy z jonizacją wsteczną

• Autorzy: Kacprzyk R. , Czapka T.

Warianty tytułu

EN

Back ionization discharge system

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy opisano układ wyładowczy z jonizacją wsteczną do wytwarzania zimnej plazmy pod ciśnieniem atmosferycznym. Porównano charakterystyki prądowo-napięciowe układów z klasycznym ulotem oraz z wyładowaniami wstecznymi. Ponadto omówiono wpływ szczeliny powietrznej między warstwą dielektryczną a elektrodą uziemioną na uzyskiwane gęstości prądu na podstawie badań doświadczalnych i symulacji komputerowej wykorzystującej metodę elementów skończonych.

EN

Application of back corona discharge phenomenon in cold plasma generation process under atmospheric pressure was described in this paper. The comparison of current-voltage characteristics of classic corona and back corona discharge systems was made. Influence of the air gap between the dielectric layer and the grounded electrode was presented as the results of the experiment and computer simulation using a finiteelement method.

Słowa kluczowe

PL

wyładowanie wsteczne; zimna plazma; warstwa dielektryczna

EN

back corona discharge; cold plasma; dielectric layer

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 8
• Strony: 290--293
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Kacprzyk R.

autor

Czapka T.

• Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław,

Bibliografia

• [1] Penetrante B.M., Hsiao M.C., Bardsley J.N., Merritt B.T., Vogtlin G.E., Wallman P.H., Kuthi A., Burkhart processing of volatile organic compounds in gas streams, Pure Appl. Chem., 68 (1996), n.5, 1083-1087
• [2] Kogel shatz U., Dielectric-barrier discharges: Their history, discharge physics, and industrial applications, Plasma Chem. Plasma Process., 23 (2003), n.1, 1-46
• [3] Hackman R., Aki yama H., Air Pollution Control by Electrical Discharges, IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul., 7 (2000), n.5, 654-683
• [4] Urashima K., Chang J.S., Removal of volatile organic compounds from air streams and industrial flue gases by nonthermal plasma technology, IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul., 7 (2000), n.5, 602-614
• [5] Magureanu M., Mandache N.B., Parvulescu V.I., Chlorinated Organic Compounds Decomposition in a Dielectric Barrier Discharge, Plasma Chem. Plasma Process., 27 (2007), n.6, 679-690
• [6] Kacprzyk R., Mista W., Decomposition of toluene using non-thermal plasma reactor at room temperature, Catal. Today, 137 (2008), n.1-2, 345-349
• [7] Jaworek A., Krupa A., Czech T., Back-corona generated plasma for decomposition of hydrocarbon gaseous contaminants, J. Phys. D-Appl. Phys., 29 (1996), n.9, 2439- 2446
• [8] Kacprzyk R., Mista W., Czapka T., Back ionisation cold plasma reactor with parallel gas flow, III International Conference on Advances in Processing Testing and Applications of Dielectric Materials. APATDM '2007, Wrocław, Poland, September 26-28, 2007. Wrocław: Oficyna Wydaw. PWroc., 2007, 65-68