The continuous measurement of the potential during the process of the electrochemical copper setting

• Autorzy: Białostocka A.M. , Walendziuk W.

Warianty tytułu

PL

Ciągły pomiar potencjału podczas procesu elektrochemicznego osadzania miedzi

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The article presents usefulness of the computer modelling support through the remote measurements in the electrochemical technologies. Modelling of the electrolytic covers demands problem solution connected with current distribution in the electrolyte, electrodes shape and composition of the electrochemical environment in which the process takes place. The adapted methodology is used in the potential analysis and its influence on the covered layer structure and its topology. Classification of methods properties makes possibility of its evaluation concerning elasticity, usefulness in the galvanic process and its use in practice.

PL

W artykule przedstawiona zostanie przydatność komputerowego wspomagania modelowania poprzez przeprowadzanie zdalnych pomiarów w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów związanych między innymi z rozkładem prądu w elektrolicie, kształtem elektrod i składem elektrochemicznym środowiska, w którym zachodzi proces. Zastosowaną metodologię wykorzystuje się do analizy potencjału i jego późniejszego wpływu na strukturę osadzonej powłoki i jej topologię. Klasyfikacja własności tej metody umożliwi jej ocenę pod względem elastyczności i przydatności w procesie galwanizacji oraz możliwość późniejszego zastosowania w praktyce.

Słowa kluczowe

EN

electrocrystallization; electrode processes; additive electrodes

PL

elektrokrystalizacja; procesy elektrodowe; elektrody dodatkowe

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2012
• Tom: R. 88, nr 6
• Strony: 163--165
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., rys.

Twórcy

autor

Białostocka A.M.

autor

Walendziuk W.

• Bialystok University of Technology,

Bibliografia

• [1] Białostocka A., Metoda kształtowania pola elektrycznego w procesie elektrochemicznego osadzania miedzi, (2008), Rozprawa Doktorska, Białystok
• [2] Trzaska M., Elektrokrystalizacja metali, Przegląd Elektrotechniczny, (2004), nr 11, 1166-1169
• [3] Walendziuk W., Bialostocka Anna M., Bolkowski S., Computer assisted galvanisation process, Computer applications in electrical engineering, (2004), Vol.2 504-514
• [4] Elektrochemiczny Miernik Uniwersalny EMU. User manual, Politechnika Wrocławska (2000)