Equivalent Model of a Magnetron Sputtering Device with Ferromagnetic Yoke

• Autorzy: Desideri D. , Maschio A. , Micu D. D. , Miron O. R. , Spolaore M.

Warianty tytułu

PL

Ekwiwalentny model magnetronu napylającego z jarzmem magnetycznym

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Two magnetron-sputtering devices have been numerically analyzed, experimentally validating the results. It has been inferred that a ferromagnetic yoke is not present in the first device, while the second one has a ferromagnetic yoke. It is shown that either the adding of the yoke, in the first case, or the removal of the yoke, in the second one, has limited effects in the magnetic configuration over the cathode. The same result has been obtained in a dummy case, where a parametric analysis considering devices with different sizes, with and without yoke, has been performed.

PL

W pracy przedstawiono analizę numeryczną dwóch magnetronów napylających oraz przedstawiono weryfikację doświadczalną wyników tej analizy. Wywnioskowano, że jarzmo ferromagnetyczne nie jest obecne w pierwszym urządzeniu, natomiast istnieje w drugim. Pokazano, że dodanie jarzma w pierwszym urządzeniu lub usunięcie w drugim ograniczyło wpływy układu magnetycznego na katodę. Ten sam wynik uzyskano w modelowym przypadku, w którym została przedstawiona analiza parametryczna urządzeń o różnych rozmiarach, z lub bez jarzma.

Słowa kluczowe

EN

magnetron sputtering; magnetic configuration; ferromagnetic yoke

PL

napylanie magnetronowe; konfiguracja magnetyczna; jarzmo magnetyczne

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2012
• Tom: R. 88, nr 7b
• Strony: 134--137
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Desideri D.

autor

Maschio A.

autor

Micu D. D.

autor

Miron O. R.

autor

Spolaore M.

• University of Padova, Department of Industrial Engineering, Via Gradenigo 6/a, I 35131 Padova (Italy),

Bibliografia

• [1] P.J.Kelly, R.D.Arnell, Magnetron sputtering: a review of recent developments and applications, Vacuum, Vol. 56, pp. 159-172, 2000.
• [2] D.Desideri, A.Maschio, D.D.Micu, O.R.Miron, Identification of an equivalent model for the permanent magnets of a magnetron sputtering device, COMPEL, Vol. 31, n. 2, pp. 514-527, 2012.
• [3] D.Desideri, O.Miron, A.Maschio, D.D.Micu, Reconstruction of an equivalent magnetostatic source of a magnetron sputtering device, Acta Electrotehnica, Vol. 51, n. 5, Special Issue, pp. 119-122, 2010.
• [4] D.Desideri et al., Characterization of a DC magnetron sputtering device, COMPEL, Vol. 24, n. 1, pp. 261-270, 2005.
• [5] M. Spolaore et al, Automatic Langmuir probe measurement in a magnetron sputtering system, Surface and Coatings Technology, Vol. 116-119, pp. 1083-1088, 1999.