Zastosowanie cienkich warstw otrzymanych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego w ekranowaniu pól elektromagnetycznych

• Autorzy: Ziaja J. , Ozimek M. , Janukiewicz J.

Warianty tytułu

EN

Application of thin films prepared by impulse magnetron sputtering for shielding of electromagnetic fields

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Cienkowarstwowe ekrany elektromagnetyczne otrzymano przez rozpylanie metalicznego targetu Ni-Fe oraz Al w procesie impulsowego rozpylania magnetronowego. Powłoki naniesiono na papier kablowy w atmosferze czystego argonu. Stosowano różny czas trwania procesu. Zbadano wpływ grubości i kolejności powłok na rezystywność powierzchniową warstw oraz skuteczność ekranowania pola elektromagnetycznego. Najwyższa uzyskana wartość ekranowania wyniosła 25 dB.

EN

Electromagnetic thin shields were prepared by deposition of metallic Ni-Fe and Al targets via impulse magnetron sputtering. Thin films sputtered onto cable papers in argon atmosphere. Metallization was carried out, at different sputtering times. The influence of layer’s thicknesses and their sequence on surface resistivity and shielding effectiveness was observed. The highest value of attenuation received 25 dB.

Słowa kluczowe

PL

pole elektromagnetyczne; skuteczność ekranowania; rozpylanie magnetronowe; cienkie warstwy

EN

electromagnetic field; shielding effectiveness; magnetron sputtering; thin films

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 5
• Strony: 222--224
• Opis fizyczny: Bibliogr. 17 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Ziaja J.

autor

Ozimek M.

autor

Janukiewicz J.

• Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław,

Bibliografia

• [1] Sokalski L., Pola elektromagnetyczne i ich niejonizujące oddziaływanie na organizmy żywe, Przegląd Elektrotechniczny, (1999), nr.4, 100-103
• [2] Wac -Włodarczyk A., Mazurek P.A., Analiza zaburzeń elektromagnetycznych emitowanych w lokalnej sieci przez komputery PC, Przegląd Elektrotechniczny, (2003), nr.12, 890-893
• [3] Sarto M. S., Li Voti R., Sarti F., Larciprete M.C., Nanolayered Ligthweight Flexible Shields with Multidirectional Optical Transparency. IEEE Transactions on Electromagnetic Compatibility, (2005) vol.47, nr.3, 602-611
• [4] Nowosielski R., Griner S., Zastosowanie ferromagnetycznych szkieł metalicznych do ekranowania pól elektromagnetycznych w zakresie częstotliwości do 1 MHz, HUTNIK – WIADOMOŚCI HUTNICZE; (2005), nr.6, 338-345
• [5] Pospieszna J., Efektywność ekranowania elektromagnetycznego, Wybrane zagadnienia, VII Sympozjum "Problemy eksploatacji układów izolacyjnych wysokiego napięcia" EUI'99, (1999), 347-353,
• [6] Pospieszna J., Postępy materiałowe w technice ekranowania pola elektromagnetycznego, Przegląd Elektrotechniczny, (2006), nr.1, 205-207
• [7] Ziaja J., Pospieszna J., Jaroszewski M., Szafran G, Koprowska J., Włókniny polipropylenowe z węglowym pokryciem plazmowym w technice ekranowania pola EM, Przegląd Elektrotechniczny, (2008), nr.10, 270-271
• [8] Foitzk R.C., Kaynaka A., Pfeffer F.M., Conductive poly(α,ω-bis(3-pyrrolyl)alkanes)-coated wool fabrics, Synthetic Metals 157, (2007), 534–539
• [9] Xiang Y., Chengbiao W., Yang L., Deyang Y., Tingyan X., Recent Developments in Magnetron Sputtering, Plasma Science & Technology, (2006), vol.1.8, nr.3, 337-343
• [10] Kelly P. J., Arnell R.D., Magetron sputtering: a review or recent developments and applications, Vacuum 56, (2000), 159-172,
• [11] Ziaja J., ZnO thin film deposition with pulsed magnetron sputtering, Przegląd Elektrotechniczny, (2007), nr.11, 235-239
• [12] ASTM D 4935-99, Standard Test Method for Measuring the Electromagnetic Shielding Effectiveness of Planar Materials, ASTM, June 1999
• [13] Więckowski, T.W. Janukiewicz, J.M., Method for Evaluating the Shielding Effectiveness of Textiles, FIBRES & TEXTILES in Eastern Europe, (2006), vol.14, nr. 5(59), 18-22
• [14] Odzież ochronna. Właściwości elektrostatyczne. Część 1: Metoda badania rezystywności powierzchniowej, PN-EN 1149- 1:2008
• [15] Ziaja J., Koprowska J., Janukiewicz J., Using plasma metallisation for manufacture of textile screens against electromagnetic fields. Fibres & Textiles in Eastern Europe, (2008), vol.16, nr.5, 64-66
• [16] Koprowska J., Ziaja J., Janukiewicz J., Modification of polypropylene textiles with conductive films, using the magnetron sputtering technique, European Polymer Congress, (2007), Portoroz, Slovenia
• [17] Koprowska J., Ziaja J., Janukiewicz J., Plasma metallization textiles as schield for electromagnetic fields, Proc. Of the 8th Sympodium on Electromagnetic Compability (EMC Europe), Hamburg, Germany, September 8-12, (2008), 493- 496