Technological features of gliding arc discharges plasma

• Autorzy: Stryczewska H. , Diatczyk J. , Komarzyniec G.

Warianty tytułu

PL

Technologiczne charakterystyki ślizgającego się wyładowania łukowego

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Investigations presented in the paper show that the kind of plasma gas, its composition and flow rate strongly influence operational characteristics of the power supply system and courses of voltage and instantaneous power. On the basis of researches presented in the paper the direction how to design industrial installations of multielectrode gliding arc reactor power systems accordingly to the requirements of the plasma-chemical process can be formulated.

PL

Przedstawione w pracy badania pokazują, że rodzaj, skład i prędkość przepływu gazu istotnie wpływają na charakterystyki pracy oraz przebiegi napięć i mocy reaktora plazmowego ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym. Wyniki badań posłużą do projektowania i budowy przemysłowych instalacji wieloelektrodowych reaktorów plazmowych ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym, jako technologicznych źródeł plazmy.

Słowa kluczowe

EN

atmospheric pressure; non-thermal plasma; gliding arc; power systems

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2008
• Tom: R. 84, nr 7
• Strony: 170--173
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., il., schem., tab.

Twórcy

autor

Stryczewska H.

autor

Diatczyk J.

autor

Komarzyniec G.

• Institute of Electrical Engineering and Electrotechnologies, Faculty of Electrical Engeering and Computer Science, Lublin University of Technology, 20-618 Lublin, Nadbystrzycka Street 38A, Poland

Bibliografia

• [1] Ph. G. Rutberg, A. A. Safronov, S. D. Popov, A. V. Surov, Gh. V. Nakonechny, Investigation of voltage and current variations in a multiphase AC electric arc system, 12th International Congress on Plasma Physics, 25-29 October, Nice (France) 2004
• [2] H. Lesueur, A. Czernichowski and J. Chapelle, French Patent 2639172 1990.
• [3] Czernichowski, Pure Appl. Chem. 66 (6) 1994 1301
• [4] A. Fridman et all., J.Appl. Phys. 92 (8) 2002 4231
• [5] Czernichowski. and M. Czernichowski., Proceedings of ISPC-17, 2005, CD
• [6] Stryczewska H. D. Polish Patent 317110 2000
• [7] Janowski, T.; Stryczewska H. D.; Ranaivosoloarimanana A.; Czernichowski A., Proceedings of 12th Int. Symp. on Plasma Chemistry, University of Minnesota (USA), 1995, vol. 2, p. 825-830F