Zastosowanie kryształów fotonicznych z przerwą wzbronioną w pomiarach stężenia gazu

• Autorzy: Pawłat J. , Matsuo T. , Sugiyama T. , Ueda T.

Warianty tytułu

EN

Possibility of gas concentration measurement using photonic crystal fiber

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Background calculations for new high-sensitivity gas concentration measuring method were performed. Darcy - Weisbach equation for non-compressible flow and quasi - Panhandle equation for compressible gas flow were used for the estimation of gas flow rate and gas velocity inside Photonic Bandgap Fiber (PBG). Several types of PBG fibres of various parameters were designed and used. Core diameters ranged from m. Microcapillary gas flows and gas concentrations insidem10.9 to 19.9 fibers were measured.

PL

Przeprowadzono obliczenia dotyczące nowej metody pomiarowej, która umożliwia detekcje gazu w bardzo niskich stężeniach. W celu obliczenia przepływu i prędkości gazu wewnątrz światłowodu z kryształów fotonicznych z przerwą wzbronioną wykorzystano równania Darcy- Weisbacha i quasi- Panhandle'a. Włókna światłowodowe z kryształów fotonicznych o różnorakich parametrach zostały zaprojektowane i użyte podczas eksperymentu. Średnica pustego rdzenia światłowodu wynosiła od m. Dokonano pomiarów przepływu gazu oraz jegom10.9 do 19.9 koncentracji wewnątrz rdzenia włókna światłowodowego.

Słowa kluczowe

EN

Sensing of Low Gas Concentration; Photonic Bandgap Fiber; microcapillary gas flow

PL

detekcja małych stężeń gazu; światłowody z kryształów fotonicznych; mikrokapilarny przepływ gazu

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2007
• Tom: R. 83, nr 5
• Strony: 31--35
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Pawłat J.

autor

Matsuo T.

autor

Sugiyama T.

autor

Ueda T.

• Graduate School of IPS,

Bibliografia

• [1] Ueda T. and Okamoto Y., Proc. of 1st Symp. Adv. Photon Proc. Measur. Tech. (1998) 25-28
• [2] Sugiyama T., Wada M., Nakajima S., Ueda T., Proc. of 4th Workshop Adv. Photon Proc. Measur. Tech. (2001) 63-66
• [3] Sugiyama T., Ueda T., Proc. of Technical Meeting on Sensors and Micromachines, CHS-03-56 (2003) 1-4
• [4] Agency for Toxic Substances and Disease Registry, http://www.atsdr.cdc.gov/toxprofiles/tp126-c4.pdf
• [5] Dean K., Carpio R., Proc. Interface ’94 OCG Microlithography Seminar (1994) 199-212
• [6] MacDonald S., Clecak N., Wendt H., Willson C., Snyder C. Knors C., Deyoe N., Maltabes J., Morrow J., McGuire A., Holmes S., Advances in Resist Technology and Processing VIII, Proc.SPIE, 1466 (1991) 2-12
• [7] Semiconductor Industry Association International Technology Roadmap for Semiconductors, http://public.itrs.net