Analiza wpływu rezystancji izolacji na dokładność wysokoomowych transferów Hamona

• Autorzy: Lisowski M. , Krawczyk K.

Warianty tytułu

EN

Analysis of insulation resistance influence on high resistance Hamon transfer accuracy

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Dokładność wysokoomowych transferów Hamona, stosowanych do porównywania rezystorów wzorcowych o dużych wartościach w stosunku 1:10 i 1:100, zależy głównie od upływności izolacji. Analiza wpływu rezystancji izolacji na dokładność tych transferów i opis sposobu minimalizacji wpływu prądów upływnościowych izolacji poprzez zastosowanie podwójnej izolacji są przedmiotem tej publikacji.

EN

Accuracy of high-resistance Hamon transfers, used for standard resistors comparison in ratio 1:10 and 1:100, depends mainly from insulation leakage. Analysis of influence of insulation resistance on these transfers accuracy and description of the method for minimalization of insulation leakage current influence, by usage of double insulation are the subject of this paper.

Słowa kluczowe

PL

wzorce wysokich rezystancji; transfery Hamona; rezystancja izolacji; podwójna izolacja

EN

high resistance standards; Hamon transfers; insulation resistance; double insulation

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2009
• Tom: R. 85, nr 2
• Strony: 75--78
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Lisowski M.

autor

Krawczyk K.

• Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii, ul. Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław,

Bibliografia

• [1] Skurzak J., Metody porównywania oporników wzorcowych przy dużym stosunku ich oporów. Praca Doktorska, Inst. Metrologii Elektrycznej Pol. Wrocławskiej, Wrocław 1973.
• [2] Dudziewicz J. i inni, Etalony i precyzyjne pomiary wielkości elektrycznych. W.K.iŁ., Warszawa 1982 s. 156-170.
• [3] Elmquist R.E., Jarrett D.G., Jones G.R., Marlin E.K., Shields S.H. Dziuba R.F., NIST Measurement Service for DC Standard Resistors. National Institute of Standards and Technology. Technical Note 1458, December 2003.
• [4] Jarret D.G., Evaluation of guarded high-resistance Hamon Transfer Standards. IEEE Trans. Instrum. Measure., Vol. 48, No 2, 1999, s. 324-328.
• [5] Jarret D.G., A 10 T per step Hamon transfer standard. 2002 Conference on Precision Electromagnetic Measurements, Ottawa, Ontario Canada, June 2002, Conf. Digest, s. 54-55.
• [6] Lisowski M., Krawczyk K., Przekazywanie jednostki rezystancji od wzorca opartego na kwantowym efekcie Halla do wysokoomowych rezystorów wzorcowych, Pomiary Automatyka Kontrola, vol. 53 (2007), nr 9, s. 88-91.