Tytuł artykułu
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Badania optyczne, AFM i ESR fotorezystu implantowanego jonami Sb+
Języki publikacji
Abstrakty
Structure, electron spin resonance and reflection coefficient in thin films (1.8 �Ęm) of photoresist implanted by 60 keV antimony ions have been investigated in the fluence range 1x1015 . 5x1016 cm-2. Formation carbonized layer at critical fluence 5x1016 cm-2 have been observed. Thickness of implanted layer determined as 0.27- 0.39 �Ęm and refraction coefficient changes in the range 2.4 . 3.4 depending on fluence implantation.
Badano strukturę, elektronowy rezonans spinowy oraz współczynnik odbicia cienkich powłok fotorezystu implantowanego jonami antymonu o energii 60 keV dawkami w zakresie 1x1015 – 5x1015 cm-2. Przy dawce krytycznej 5x1015 cm-2 zaobserwowano powstawanie warstwy osadu węgłowego. Określono grubość warstwy implantowanej: 0.27- 0.39 .m oraz zmiany współczynnika odbicia – w zakresie 2,4 - 3,4 w zależności od dawki implantacji.
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
270--271
Opis fizyczny
Bibliogr. 4 poz., rys., wykr.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
autor
- Belorussian State University, 4. Nezavisimosti av. Minsk, Republic of Belarus, odzaev@bsu.by
Bibliografia
- [1] Stepanov A.L. , Khaibullin R . I . , Rev. Adv. Mater. Sci., Optics of metal nanoparticles fabricated in organic matrix by ion implantation, 7, (2004) 108-125
- [2] Popok V.N., Compositional and structural alterations of polymers under low-to-medium-energy ion implantation, Surface Science Research, (2005) 147-193
- [3] Malyshev A.Y. , Biturin M.Y. , The model of laser swelling in polymers under nanosecond impulses (in Russian) Quontum electroinics, 35, 9, (2009) 825-830
- [4] Odzhaev V.B., Kozlov I. P., Popok V.N., Sviridov D.V., Ion implantation of polymers (in Russian), Minsk, (1998) 197 p.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPOC-0057-0083