Zaawansowane modelowanie warstw diamentowych CVD w zastosowaniach MEMS/MOEMS

• Autorzy: Kociubiński A. , Duk M. , Bieniek T. , Janczyk G.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono i omówiono zastosowanie warstw diamentowych osadzanych metodą CVD w systemach typu MEMS i MOEMS. Porównano fizyczne właściwości warstw diamentowych z właściwościami krzemu. Jako przykład przedstawiono założenia i wyniki symulacji typowej struktury mikromechanicznej wytworzonej z warstwy diamentowej i warstwy krzemowej. Wszystkie symulacje zostały wykonane dedykowanym oprogramowaniem do symulacji systemów typu MEMS - CoventorWare ™.

EN

of CVD diamond layers have been compared with silicon layer properties. As an example of diamond-based and silicon-based devices, modeling issues and results of simulations performed for typical MEMS structure have been presented and discussed. All simulations have been carried out within the specialized simulation environment - CoventorWare™.

Słowa kluczowe

PL

diament; mikrosystemy; symulacje

EN

diamond; MEMS; simulation; diamond technology

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 7
• Strony: 221--223
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Kociubiński A.

autor

Duk M.

autor

Bieniek T.

autor

Janczyk G.

• Politechnika Lubelska, Katedra Elektroniki, ul. Nadbystrzycka 38d, 20-618 Lublin,

Bibliografia

• [1] Szmidt J., Technologie diamentowe. Diament w elektronice., Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, (2005),ISBN: 83-7207-550-6
• [2] Sussmann, Ricardo S., CVD Diamond for Electronic Devices and Sensors, John Wiley & Sons, Ltd., 78 (2009), ISBN: 978-0-470-06532-7
• [3] http://www.coventor.com
• [4] http://www.diamond-materials.com
• [5] Kohn E., Adamschik M., Schmid P., Ertl S., Floter A., Diamond electro-mechanical micro devices - technology and performance, Diamond and Related Materials, 10 (2001), 1684-1691