Urządzenie mikrofalowe do generacji płaszczyzny plazmowej

• Autorzy: Jasiński M. , Goch M. , Mizeraczyk J.

Warianty tytułu

EN

Microwave device for generation of plasma sheet

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W niniejszym artykule prezentowane jest nowe urządzenie mikrofalowe pracujące na częstotliwości 2,45 GHz, które służy do wytwarzania płaszczyzny plazmowej. Unikalny kształt generowanej płaszczyzny plazmowej jest bardzo dogodny do obróbki powierzchni, a więc atrakcyjny dla zastosowań w przemyśle. Prezentowany mikrofalowy generator płaszczyzny plazmowej jest urządzeniem wytwarzającym plazmę nietermiczną w argonie pod ciśnieniem atmosferycznym.

EN

In this paper, a new microwave device operated at 2.45 GHz for generation of plasma sheet is presented. The unique shape of generated plasma sheet is very convenient for surface treatment, thus it is attractive for industry. Presented microwave generator of plasma sheet produces non-thermal plasma in argon at atmospheric pressure.

Słowa kluczowe

PL

płaszczyzna plazmowa; mikrofalowy generator płaszczyzny plazmowej; plazma nietermiczna; obróbka powierzchni

EN

plasma sheet; microwave generator of plasma sheet; non-thermal plasma; surface treatment

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 7
• Strony: 112--114
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Jasiński M.

autor

Goch M.

autor

Mizeraczyk J.

• Instytut Maszyn Przepływowych im. R. Szewalskiego Polskiej Akademii Nauk, ul. Fiszera 14, 80-952 Gdańsk,

Bibliografia

• [1] Kang J.G., Kim H.S. , Ahn S.W., Uhm H.S., Development of the RF Plasma Source at Atmospheric Pressure, Surface and Coating Tech., 171 (2003), 125-128
• [2] Moisan M., Zakrzewski Z., Rostaing J.C., Waveguide-based single and multiple nozzle plasma torches: the TIAGO concept, Plasma Sources Sci. Technol., 10 (2001), 387-395
• [3] Jasiński M., Mizeraczyk J . , Zakrzewski Z. , Ohkubo T. , Chang J.S. , CFC-11 Destruction by Microwave Plasma Torch Generated Atmospheric-Pressure Nitrogen Discharge, Journal of Physics D: Applied Physics, 35 (2002), 2274-2280
• [4] Goch M. , Jasiński M . , Zakrzewski Z. , Mizeraczyk J ., New microwave source of microdischarges in noble gases at atmospheric pressure, Czechoslovak Journal of Physics, 56 (2006), 795-802
• [5] Nowakowska H., Jasiński M. , Mizeraczyk J . , Zakrzewski Z. , Kabouzi Y. , Castaños-Martinez E., Moisan M., Surface-wave sustained discharge in neon at atmospheric pressure: model and experimental verification, Czechoslovak Journal of Physics, 56 (2006), 964-970
• [6] Bilgic A.M., Engel U ., Voges E., Kuckelheim M., Broekaert J .A.C., A new low-power microwave plasma source using microstrip technology for atomic emission spectrometry, Plasma Sources Sci. Technol., 9 (2000), 1-4
• [7] Pollak J . , Moisan M. , Zakrzewski Z. , Long and uniform plasma columns generated by linear field applicator based on stripline technology, Plasma Sources Sci. Technol., 16 (2007), 310-323
• [8] Jasiński M., Goch M., Mizeraczyk J ., Urządzenie plazmowe do obróbki powierzchni elementów, 2008, Zgłoszenie patentowe w Urzędzie Patentowym RP, Nr P 383703
• [9] Hsieh J.H., Fong L.H., Yi S., Metha G., Plasma Cleaning of Copper Leadframe with Ar and Ar/H2 Gases, Surface and Coating Technology, 112 (1999), 245-249
• [10] Yoshiki H., Generation of Air Microplasma Jet and Its Application to Local Etching of Polyimide Films, Japaneas Journal of Applied Physics, 45 (2006), 5618-5623
• [11] Butyagin P . I ., Khokhryakov Y.V., Mamaev A.I ., Microplasma Systems for Creating Coatings on Aluminium Alloys, Materials Letters, 57 (2003), 1748-1751