An effect of rapid thermal annealing on the structure of TiN/Ti/Si

• Autorzy: Yemelianenko Y. , Kolos V. , Markevich M. , Stelmakh V.F. , Chaplanov A. , Karwat C.

Warianty tytułu

PL

Wpływ szybkiego wygrzewania termicznego na strukturę TiN/Ti/Si

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The structure-phase transformations that occur in TiN/Ti/Si system during pulse photon processing carried out with the incoherent light have been investigated using TEM method. The electrical and optical properties of C49 TiSi2 have been also studied.

PL

Przeprowadzono badania transformacji strukturalno-fazowych, jakie występują w układzie TiN/Ti/Si podczas obróbki impulsowofotonowej światłem niespójnym przy użyciu metody elektronowej mikroskopii transmisyjnej (TEM). Badano również właściwości elektryczne i optyczne C49 TiSi2.

Słowa kluczowe

EN

RTA; TiSi2; structure TiN/Ti/Si; density

PL

struktura TiN/Ti/Si; gęstość; RTA; TiSi2

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 7
• Strony: 26--28
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Yemelianenko Y.

autor

Kolos V.

autor

Markevich M.

autor

Stelmakh V.F.

autor

Chaplanov A.

autor

Karwat C.

• Institute of Physics of NAS of Belarus named after Stepanov, Minsk, Belarus,

Bibliografia

• [1] Pilipenko V.A., High-Speed Heat Treatments in SLSI Technologies, Minsk: Publishing Center of BSU, (2004), 531
• [2] Pilipenko V.A., Herald of BSU n.2 (2001), 43-45
• [3] Ievlev V.M., Kushchev S.B., Herald of VSTU, (1997), Ser. Materials Science.1 (1997), 8-11
• [4] Ritterskamp P., Kuklya A., Wustkamp M., Kerpen K., Weidenthaler C., Demuth M., Angewandte Chemie International Edition, 46 n.1.41 (2007), 7770-7774
• [5] Zsoldosa E., Petõa G., Schillera V. , Vály G ., Thin Solid Films, 137 (1986), 243-249
• [6] Glen L., Miles S. , Randy W., Mann P., Bertsch J.E. , Thin Solid Films 290-291 (1996), 469-472
• [7] Levy D., Ponpon J.P., Grob A., Grob J.J., Siffert P., Physica B+C, 129 (1985), 205-209