Nanoskopowa analiza orientacji domen magnetycznych z wykorzystaniem technik bliskiego pola

• Autorzy: Ozimek M. , Sikora A. , Goworska-Koniarek D. , Wilczyński W.

Warianty tytułu

EN

Utilisation of Near Field Microscopy for Nanoscopic Analysis of Magnetic Domain Orientation

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Cienkie warstwy NiFe otrzymano na szkle kwarcowym za pomocą impulsowego rozpylania magnetronowego. Proces nakładania prowadzono przy stałej mocy (550 W) i różnym ciśnieniu gazu roboczego (0,4, 1,0, 4,0 Pa). Zbadano strukturę domenową otrzymanych warstw za pomocą mikroskopii sił magnetycznych (MFM). Grubość powłok zawierała się w przedziale od 80 do 150 nm.

EN

NiFe thin films deposited onto Si substrate at room temperature via impulse magnetron sputtering. Magnetron deposition was carried out in sputtering power 550 W and different argon pressure (0.4, 1.0, 4.0 Pa). The ferromagnetic layers thicknesses were 80, 150 and 120 nm respectively. The samples were characterized by X-Ray diffraction. Effect of sputtering parameters on domain structure, as explored by magnetic force microscopy (MFM), was focused. The investigation showed a variety of magnetic domain microstructures

Słowa kluczowe

PL

mikroskopia sił magnetycznych; domeny magnetyczne; cienkie warstwy Ni-Fe; rozpylanie magnetronowe

EN

magnetic force microscopy; magnetic domains; thin films Ni-Fe; magnetron sputtering

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 86, nr 4
• Strony: 72--74
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Ozimek M.

autor

Sikora A.

autor

Goworska-Koniarek D.

autor

Wilczyński W.

• Instytut Elektrotechniki, ul. Pożaryskiego 28, 04-703 Warszawa,

Bibliografia

• [1] Garcia R. , Diet ler G., Dynamic atomic force microscopy methods, Surface Science Reports, 47 (2002), No. 6-8, 197-301
• [2] Giessibl F., Advanced in atomic force microscopy, Reviews of Modern Physics, 75 (2003), 949-983.
• [3] Proksch R., Recent advances in magnetic force microscopy, Current Opinion in Solid State and materials Science, 4 (1999), No. 2, 231-236
• [4] Folks L., Woodward R.C., The use of MFM for investigation domain structures in modern permanent magnet materials, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 190 (1998), 28-41
• [5] Zhong Z., Zhang H., Jing Y., Tang X., Liu S., Magnetic microstructure and magnetoimpedance effect in NiFe/FeAlN multilayer films, Sensor and Actuators A, 141 (2008), No. 1, 29-33
• [6] Wang Z.H., Chen K., Zhou Y., Zeng H.Z., MFM studies of microstructure and magnetic properties of iron thin films prepared by sputtering, Ultramicroscopy, 105 (2005), No. 1-4, 343-346
• [7] Kelly P. J. , Arnell R.D.: Magetron sputtering: a review or recent developments and applications. Vacumm, 56 (2000), No. 3, 159-172
• [8] Xiang Y., Chengbiao W., Yang L., Deyang Y. , Tingyan X.: Recent Developments in Magnetron Sputtering. Plasma Science & Technology, 1.8 (2006), No. 3, 337-343
• [9] Chen X., Qiu H., Wu P., Wang F., Pan L., Tian Y., Phase transformation of Ni33Fe67 and Ni21Fe79 films grown on SiO2/Si(100), Physica B, 362 (2005), No 1-4, 255 – 265
• [10] Li X.H. , Yang Z., Effects of sputtering conditions on the structure and magnetic properties of Ni-Fe films, Materials Science and Engineering B, 106 (2004), No. 1, 41-45