Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
Abstrakty
Temperatura podłoża jest jednym z głównych parametrów obróbki powierzchniowej prowadzonej za pomocą plazmy wyładowania jarzeniowego. Dotyczy to zarówno procesów modyfikacji warstwy wierzchniej, jak i osadzania powłok. W pracy przedstawiono wyniki badań skuteczności grzania podłoży metalowych w plazmie wyładowania jarzeniowego. Aby możliwe było porównanie wyników przeprowadzone badania polegały na utrzymaniu stałej temperatury podłoża (300 lub 400°C) przy zmieniających się warunkach wyładowania. Badania prowadzono dla rożnych składów atmosfery w komorze reaktora (Ar, N2, CH4, H2) oraz dla mieszanin tych gazów. Zmieniane było ciśnienie oraz parametry zasilania reaktora. Testy prowadzono dla trzech rodzajów wyładowań (DC, RF, DC-imp). Przedstawione wyniki testów mogą być pomocne przy opracowywaniu technologii obróbki powierzchniowej wykorzystujących techniki plazmowe.
Surface temperature is very important in plasma deposition and surface modification processes. In this paper we present measurements of metal surface heating efficiency in glow discharge plasma. To achieve comparable results we held the substrate temperatures constant at 300 or 400°C while varying other plasma parameters (pressure, gas flow rates and applied power). Three different power supplies (DC, pulsed DC and RF) were used in this study. The measurements were repeated for different working gasses (Ar, N2, CH4 and H2) and for some of their compositions. Our results can be useful for designing plasma assisted surface treatment processes.
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
917--920
Opis fizyczny
Bibliogr. 4 poz., rys., tab.
Twórcy
autor
- Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, marian.clapa@p.lodz.pl
Bibliografia
- [1] Dora J.: Instrukcja obsługi impulsowego zasilacza Dora Power System DPS-5kW i DPS-10kW.
- [2] Peng X. L., Clyne T. W.: Mechanical stability of DLC films on metallic substrates: Part I-Film structure and residual stress levels. Thin Solid Films 312 (1998) 207-218.
- [3] Okada T., Higashi S., Kaku H., Koba N., Murakami H., Miyazaki S.: Effect of He addition on the heating characteristics of substrate surface irradiated by Ar thermal plasma jet. Thin Solid Films 516 (2008) 3680-3683.
- [4] Chapman B.: Glow discharge processes: Sputtering and plasma etching. Wiley (1980).
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPL8-0016-0017