Azotowanie jarzeniowe na potencjale uzupełniającym

• Autorzy: Betiuk M. , Kowalski S.

Warianty tytułu

EN

The ion nitriding on complementary potential

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono stan zagadnienia dotyczący podstawowych modeli procesu azotowania jarzeniowego (azotowanie jonowe). W syntetyczny sposób scharakteryzowano zjawiska odpowiedzialne za proces azotowania jarzeniowego technologią tradycyjną i z zastosowaniem ekranu aktywnego. Wyjaśniono istotę procesu azotowania jarzeniowego na potencjale uzupełniającym. Przedstawiono eksperyment i wyniki badań azotowania stali X37CrMo5-1 w trzech obszarach plazmy, w tym na potencjale uzupełniającym. Plazmę wyładowania jarzeniowego tworzono z mieszanki N2 + H2 (30÷70%) podawanej do komory pieca jarzeniowego z jonowym ekranem grzewczym z zachowaniem ciśnienia 220 Pa.

EN

The paper presents state of the problem of general models glow-discharge nitriding process (ion nitriding). In the synthetic manner responsible phenomena for glow-discharge nitriding process with the traditional technology, with the use of the active screen and using the complementary potential have been characterized. Nature the ion nitriding on complementary potential was explained. Experiment and findings of the nitriding steel WCL in three areas of plasma, also on the complementary potential have been presented. Plasma glow discharge was created from the mixture N2 + H2 (30÷70%) in the chamber with ionic heating screen to keep pressure 220 Pa.

Słowa kluczowe

PL

azotowanie jonowe; ekran aktywny; potencjał plazmy; azotowanie; potencjał uzupełniający plazmy

EN

ion nitriding; active plasma screen; plasma potential; plasma complementary potential

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2010
• Tom: Vol. 31, nr 4
• Strony: 869--873
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Betiuk M.

autor

Kowalski S.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa,

Bibliografia

• [1] Trojanowski J., Nakonieczny A., Babul T., Wierzchoń T.: Procesy azotowania i węgloazotowania jarzeniowego w motoryzacji, przykłady zastosowań. Inżynieria Powierzchni 4 (2007) 3-8.
• [2] Michalski J.: Tworzenie się warstw powierzchniowych azotku i węglika tytanu w procesach krystalizacji z fazy gazowej w atmosferach chlorkowych. Monografia IMP, ISBN 83-904574-8-2, Warszawa (2001).
• [3] Li C. X., Bell T.: Principles, mechanisms and applications of active screen plasma nitriding. Heat Treatment of Metals (2003) 1-7.
• [4] Spies H.-J., Thien Le. H., Biermann H.: Verhalten von Stählen beim Plasmanitrierenmit einem Aktivgitter HTM-Z. Werkst. Wärmebeh. Fertigung 60 (4) (2005) 1-8.
• [5] Walkowicz J.: Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni. Studia i rozprawy, ITeE, Radom (2003).
• [6] Keller K.: Schichtaufbau glimmnitrierter Eisenwerkstoffe. Harterai Technische Mitteilungen 26 (1971) 120-130.
• [7] Patent USA nr 5,989,363 z roku 1999: Jean Gorges Luxemburg: Nitriding process and nitriding furnace therefore.