PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Structural and physical properties of chromium layers obtained by pulse plating techniques

Identyfikatory
Warianty tytułu
PL
Strukturalne i fizyczne właściwości powłok chromowych wytwarzanych techniką impulsowego elektroosadzania
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
In our study, chromium coatings were obtained by pulse plating electrodeposition from a hard chromium electrolyte. The influence of pulse plating parameters on the structure and properties of the chromium coatings was studied and compared to those electrodeposited under direct current. The results showed that depending on pulse plating sequences, coatings with different appearance and properties could be electrodeposited. Thus, while in some cases bright, cracked surfaces with high hardness and low corrosion resistance as those obtained under direct current conditions were obtained, in other cases, chromium coatings with a matt, crack-free surface and high corrosion resistance were produced. Relations among structural and physical properties were established.
PL
Praca przedstawia wyniki badań poświęcone otrzymywaniu twardych powłok chromowych metodą impulsowego elektroosadzania. Określono wpływ parametrów procesu impulsowego osadzania na strukturę i właściwości powłok chromowych w odniesieniu do powłok osadzanych w warunkach stałoprądowych DC. Ustalono, że w zależności od sekwencji impulsów prądowych można otrzymać powłoki o rożnej morfologii i właściwościach. Otrzymano jasne, spękane powłoki o dużej twardości i niskiej odporności korozyjnej, jak w przypadku powłok osadzanych metodą klasyczną (DC), jak również powłoki, które charakteryzowały się matową, zwartą powierzchnią i dużą odpornością korozyjną. Określono relacje pomiędzy strukturą a właściwościami fizycznymi powłok.
Rocznik
Strony
362--365
Opis fizyczny
Bibliogr. 10 poz., rys. tab.
Twórcy
autor
autor
autor
  • Surface Finishing Department, CIDETEC -Centre for Electrochemical Techniques (Spain), egarcia@cidetec.es
Bibliografia
  • [1] Schlesinger M., Paunovic M.: Modern Electroplating. JOHN WILEY & SONS, EE.UU. (2000).
  • [2] Lowenheim F. A.: Electroplating. McGraw-Hill Book Co., New York, EE.UU. (1978).
  • [3] Weiner R., Walmsley A.: Chromium Plating. Finishing Publications, Teddington ,England (1980).
  • [4] Puippe J. C. et al.: Theory and Practice of Pulse Plating. AESF, Orlando, EE.UU. (1986).
  • [5] Chandrasekar M. S., Pushpavanam M.: Pulse and pulse reverse plating- Conceptual, advantages and applications. Electrochimica Acta 53 (2008) 3313-3322.
  • [6] Leisner P., Bech-Nielsen G., Moller P.: Current efficiency and crystallization mechanism in pulse plating of hard chromium. Journal of Applied Electrochemistry 23 (1993) 1232-1236.
  • [7] Martyak N. M., Mc Caski J. E.: Microcracks in chromium electrodeposits. Journal of Materials Science 32 (1997) 6069-6073.
  • [8] Nielsen C. B., Leisner P., Horsewell A.: On texture formation of chromium electrodeposits. Journal of Applied Electrochemistry 28 (1998) 141-150.
  • [9] Tsai R. Y. Wu S. T.: Influence of pulse plating on the crystal structure and orientation of chromium. Journal of Electrochemical Society 138 (1991) 2622-2626.
  • [10] Choi Y.: Corrosion and wear properties of electrodeposited amorphous chrome. Journal of Materials Science 32 (1997) 1581-1586.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPL8-0015-0033
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.