Osadzanie cienkich warstw magnetycznych z Fe81B13.5 Si3.5Co2 metodą PLD z wykorzystaniem lasera ekscymerowego typu ArF

• Autorzy: Mróz W. , Prokopiuk A. , Korwin-Pawlowski M. L. , Burdyńska S. , Jedyński M.

Warianty tytułu

EN

Deposition of thin films composed of Fe81B13.5 Si3.5Co2 material by PLD method using the ArF excimer laser

• Konferencja: Inżynieria Powierzchni, INPO 2008 ( VII; 02-05.12.2008; Wisła-Jawornik, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono wyniki eksperymentalne przeprowadzonych na cienkich warstw materiału magnetycznego Fe81B13.5 Si3.5Co2 z wykorzystaniem lasera ekscymerowego ArF (? = 193 nm). Materiał ten, ze względu na potencjalnie duży współczynnik magnetoelastyczności może mieć szerokie zastosowanie do budowy czujników i aparatury pomiarowej. Osadzenia zostały wykonane na polerowanym podłożu krzemowym o orientacji krystalograficznej <100>, w temperaturze: RT, 250°C, 450°C i 550°C. Zaprezentowano wyniki diagnostyk z wykorzystaniem AFM, SEM, FTIR oraz analizy chemicznej osadzonych warstw o zróżnicowanej grubości w różnych warunkach eksperymentalnych.

EN

Depositions of thin films, composed of Fe81B13.5 Si3.5Co2 material were performed with ArF excimer laser (? = 193 nm). The material, with expected large magnetoelastic coefficient is potentially applicable in sensor and actuator technology. Depositions were done on polished <100> orientation Si substratem held at different temperatures: RT, 250oC, 450oC and 550oC. Results of AFM, SEM, FTIR and chemical composition measurements of the layers in function of process parameters and of the resulting thickness of the layers are presented.

Słowa kluczowe

PL

metoda PLD; laser ekscymerowy typu ArF; analiza chemiczna osadzonych warstw

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 29, nr 6

Twórcy

autor

Mróz W.

autor

Prokopiuk A.

autor

Korwin-Pawlowski M. L.

autor

Burdyńska S.

autor

Jedyński M.

• Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Optoelektroniki, Warszawa,

Bibliografia

• [1] Yariv A. and Winsor H. V.: Opt. Lett. 5 (1980) 87.
• [2] Lee K.-S., Lee Yu S. and Suh Su J.: Proc. SPIE 2292 (1994) 2292-07.
• [3] Rengarajan S. and Walser R. M.: J. Appl. Phys, 81, (1997) 4278.
• [4] Sedlar M., Matejec V. and Paulicka I.: Sensors and Actuators 84 (2000) 29.
• [5] Ambrosino C., Capoluongo P., Campopiano S., Cutolo A., Cusano A., Giordano M., Davino D. and Visone C.: Proc. SPIE, 5952 (2005) 595217.
• [6] Passaro V. M. N., Dell’Olio F. and De Leonardis F.: Progr. Quant. Electron, 30 (2006) 45.
• [7] Kersey A. D., Jackson D. A. and Corke M.: J. Lightwave Technol. LT-3 (1984) 836.
• [8] Kundys B., Bukhantsev Yu., Szymczak H., Gibbs M. R. J. and. Żuberek R: J. Magnetism and Magn. Mat. 258-259 (2003) 551.
• [9] Kundys B., Bukhantsev Yu., Szymczak H., Gibbs M. R. J. and Żuberek R.: J. Phys. D: Appl. Phys. 35 (2002) 1095.
• [10] Sedlar M. and Pust L.: Ceramics International 21, (1995) 21.
• [11] Sedlář M., Matejĕc V., Grygar T. and Kadlecová J.: Ceramics International 26 (2000) 507.
• [12] Chen Li-Chyong in “Pulsed Laser Deposition of Thin Films” ed. by Douglas B. Chrisey and Graham K. Hubler (John Wiley and Sons, Inc., New York (1994) 167.