Naprężenia dwuosiowe w warstwach diamentowych nanoszonych na podłoża krzemowe

• Autorzy: Staryga E. , Klimek L. , Fabisiak K. , Kozanecki M. , Jarzyńska D.

Warianty tytułu

EN

Biaxial stresses in diamond films deposited on silicon substrates

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja "Nowoczesne Technologie w Inżynierii Powierzchni" (III; 3-6.10.2006; Łódź-Spała, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawione są rezultaty badań naprężeń w polikrystalicznych warstwach diamentowych naniesionych przy użyciu metody HFCVD na podłoża krzemowe. Charakterystykę warstw przeprowadzono przy zastosowaniu takich technik jak: spektroskopia Ramana, skaningowa mikroskopia elektronowa i dyfrakcja elektronów wstecznie rozproszonych. Mikrofotografie powierzchni warstw diamentowych wskazują na polikrystaliczną strukturę, składającą się z ziarn diamentu o rozmiarach rzędu 1 um. Badania umożliwiły identyfikację składu fazowego badanego materiału wskazując na znaczny udział fazy diamentowej w ziarnach polikrystalicznej struktury. Analiza rezultatów wskazuje na brak obecności w badanych warstwach diamentowych takich faz krystalicznych jak lonsdaleit i grafit. W przypadku cienkich warstw diamentowych widoczne są obszary podłoża krzemowego nie pokryte warstwą diamentu a prawdopodobnie pokryte amorficzną warstwą węglową lub warstwą węglika krzemu.

EN

In the paper the results of biaxial stress investigations in polycrystalline diamond films deposited on silicon substrates by HF CVD are presented. The diamond films characteristics were carried out using Raman spectroscopy, SEM and EBSD. SEM images of diamond films surface indicate on the polycrystalline structure with diamond grains about 1 um. The researches enabled the identifications of diamond films phase composition indicating on the considerable concentration of diamond phase in the grains of polycrystalline structure. There is no found the crystalline phase as lonsdaleit and graphite in tested diamond films. In the case of very thin films we can shown the places not covered polycrystalline diamond layer, the silicon substrate is covers by amorphous carbon film or SiC film.

Słowa kluczowe

PL

napreżenia w polikrystalicznych warstwach diamentowych; metoda HF CVD; podłoża krzemowe; spektroskopia Ramana; skaningowa mikroskopia elektronowa; dyfrakcja elektronów wstecznie rozproszonych

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 27, nr 5
• Strony: 1236--1239
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Staryga E.

autor

Klimek L.

autor

Fabisiak K.

autor

Kozanecki M.

autor

Jarzyńska D.

• Staryga, E. - Instytut Fizyki, Politechnika Łódzka,

Bibliografia

• [1] Fabisiak K., Banaszak A., Kaczmarski M., Functional Materiał. 10(2003)117-120
• [2] Michael J.R., Goehner R.P.: Crystallographic phase identyfication in the scanning elctron microscope: backskattered electron Kikuchi patterns imaged with a CCD based detector. MAS bulletin 23 168, 1993.]
• [3] Knight D.S., White W.B., J. Mater. Res. 4 (1989) 385-393
• [4] Handbook of industrial diamonds and diamond films. ed. Pralas M., Popovici G., Bigelow L.K., New York: Marcel Dekker Inc. 1998. pp. 413-425
• [5] Jung H.S., Park H.H., Diamond Relat. Mater. 12 (2003) 1373- 1377.
• [6] Sails S. R., Gardiner D.J., Bowden M., Savage J., Rodway D., Diamond Relat. Mater. 5 (1996) 589-591.
• [7] Pandey M., Cunha R.D., Tyagi A.K., J. Alloys Comp. 333 (2002) 260-264.
• [8] Chen K. H., Lai Y. L., Lin J.C., Song K.J., Chen L.C., Haug C.Y., Diamond Relat. Mater. 4 (1995) 460-463.
• [9] Windischmann H., Gray K.J., Diamond Relat. Mater. 4 (1995) 837-842.
• [10] Ager Ul J.W., Drory M.D., Phys. Rev. B 48 (1993) 2601-2607.
• [11] Ralchenko V.G., Smolin A.A., Pereverzev V.G., Obraztsova E.D., Korotoushenko K.G., Konov VI., Lakhotkin Yu.V., Loubnin E.N., Diamond Relat. Mater. 4 (1995) 754-758.
• [12] Nakamura Y., Sakagami S., Amamoto Y., Watanabe Y., Thin Solid Films 308-309 (1997) 249-253.