Badania nad syntezą warstw ZrO2+Y2O3 metodą MOCVD

• Autorzy: Sawka A. , Kwatera A. , Andreasik P. , Juda W.

Warianty tytułu

EN

Investgation on synthesis of ZrO2+Y2O3 layers by MOCVD method

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja "Nowoczesne Technologie w Inżynierii Powierzchni" (III; 3-6.10.2006; Łódź-Spała, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki wstępnych badań nad syntezą warstw Zr02+Y203 za pomocą metody MOCVD (Metal Organie Chemical Vapour Deposition) z użyciem acetyloacetonianu cyrkonu oraz tetrametyloheptadionianu itru na podłożach ze szkła kwarcowego. I Gazem nośnym była mieszanina argonu i powietrza. Temperaturę parowania Zr(acac)4 zmieniano w zakresie 140-160°C, zaś temperaturę parowania Y(tmhd)3 w zakresie 130-160 °C. Temperaturę podłoża zmieniano w zakresie 500-650 °C. Ciśnienie gazów w reaktorze wynosiło 140 - 10 000 Pa. Pozostałe parametry procesu dobierano tak, by wartość wyrażenia Grx/Rex2 była niższa niż 0,001. Zbadano skład chemiczny i mikrostrukturę otrzymanych warstw. Praca związana jest z opracowywaniem kompozytowego elektrolitu dla tlenkowych ogniw paliwowych nowej generacji.

EN

In the paper results of initial research on synthesis of Z1O2+Y2O3 layers by MOCVD method using Zr(acac)4 and Y(tmhd)3 on quartz glass substrates are presented. The mixture of argon and air was used as a carrier gas. Evaporation | temperature of Zr(acac)4 was changed in the range of 140-160°C and evaoration temperature of Y(tmhd)3 in the range of 130-160°C. The) temperature of substrate was changed from 500° to 650°C. The pressure in the CVD reactor attained 140-10 000 Pa. Other parameters of process were settled in a such way that the value of extended expression Grx/Rex2 was below 0,001. Chemical composition and microstructure of obtained layers were examined. This work s related to elaboration of new composite electrolyte for solid oxide fuel cells.

Słowa kluczowe

PL

metoda MOCVD; synteza warstw ZrO2+Y2O3; podłoże ze szkła kwarcowego

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 27, nr 5
• Strony: 1218--1219
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys.

Twórcy

autor

Sawka A.

autor

Kwatera A.

autor

Andreasik P.

autor

Juda W.

• Sawka, A. - Wydział Inżynierii Materiałowej, Akademia Górniczo-Hutnicza,

Bibliografia

• [1] Dietrich G., Schafer W.: Advances in the development of thin film cells for high temperaturę electrolysis. Int. J. Hydrogen Energy. 9 ,1984, 747
• [2] Carolan M.F., Michaels J.N.: Chemical vapour deposition of yttria-stabilized zirconia for high temperaturę electrolysis. Solid State lonics, 25, 1987, 207
• [3] Brinkman H.W. , Cao G. Z, Meijerink J., Yties K.J., Burggraaff A.J.: Modelling analysis of CVD processes for ceramic membranę preparation. Solid State lonics, 63-65, 1993, 77
• [4] Rybnikov A.I., Tchizhik A.A., Ogurtsov A. P., Malashenko I.S., Yakovchuk K.Yu.: The structure and properties o metal and metal-ceramic coatings produced by physical vapour deposition. J. of Mat. Processing. Technolog. 55, 1995, 234
• [5] Liaw B. Y., Rocheleau R.E., Gao Q. H.: Thin-film yttriastabilized tetragonal zirconia. Solid State lonics. 92, 1996, 85
• [6] Vong M.S.W., Sermon P.A., Sun Y.: Zirconia and Y-doped zirconia aerogels and xerogels. J. Chim. Phy. 93, 1996, 1016
• [7] Kwatera A.: Uniform Thin CVD Layers of High Density on the Inner Surface of Tubę Shaped Substrates. Thin Solid Films 204, 1991,313
• [8] Andreasik P, Kwatera A., Sawka A., Juda W.: Otrzymywanie warstw tlenku itru z tetrametyloheptanodionianu itru (Y(tmhd)3). Inżynieria Materiałowa. 5,2005,265