Optymalizacja warunków eksperymentalnych reflektometrii rentgenowskiej

• Autorzy: Bierska - Piech B. , Wojciech M. , Goryczka T. , Łągiewka E.

Warianty tytułu

EN

The optimalization conditions for registration of X-ray reflectivity

• Konferencja: Krajowa Konferencja ,,Nowe Materiały - Nowe Technologie w Przemyśle Okrętowym i Maszynowym" (III; 28.05 - 01.06.2006; Międzyzdroje, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy dokonano optymalizacji warunków rejestracji krzywej reflektometrycznej otrzymanej przy zastosowaniu przystawki do dyfraktometru X’PERT firmy PanAlytical. Jako materiał wzorcowy zastosowano warstwę chromu o grubości 480A, napyloną na podłoże polikrystalicznego krzemu. Analizowano wpływ ilości punktów pomiarowych w zadanym zakresie kątowym, czas zliczeń w każdym punkcie pomiarowym, a także wpływ wielkości szczelin na kształt zarejestrowanej krzywej reflektometrycznej. Obliczenia wykonano przy pomocy programu komputerowego WINGIXA.

EN

The optimalization conditions for registration of a reflectivity curve obtained with the use of an attachment for the X’PERT diffractometer of PanAlytical Company were determined in this work. The chromium layer of 480A thickness deposited on a polycrystalline silicon substrate was used as a standard material. The effect of the number of measurement point in a given angle range, time of each measurement point, as well as effect of the slit size on the shape of the reflectivity curve was analysed. The calculations were carried out with the use of the WINGIXA software.

Słowa kluczowe

PL

warunki eksperymentalne; reflektometria rentgenowska

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 27, nr 3
• Strony: 342--345
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Bierska - Piech B.

autor

Wojciech M.

autor

Goryczka T.

autor

Łągiewka E.

• Uniwersytet Śląski, Instytut Nauki o Materiałach,

Bibliografia

• [1] L.G Parratt, Physical Review, Surface Studies of Solids by Total Reflection of X-Rays 95 (1954) pp. 359-369.
• [2] H. Kiessig, Interferenz von Röntgenstrahlen an dünnen Schichten, Ann. Phys. 10 (1931) pp. 769-778.
• [3] T. Christ, F. Geffart, B. Glüsen, A. Kettner, G Lüssem, O. Schäfer, V. Stümpflen, J. H. Wendorff, V.V. Tsukruk, Analysis of light emitting diodes by X-ray reflectivity measurements, Thin Solid Films 302, (1997), pp. 214-222.
• [4] M. Tolan, X - Ray Scattering from Soft - Matter Thin Films, Materials Science and Basic Research, Springer, Heidelberg, 1999.
• [5] H. Yamaoka, H. Matsuoka, K. Kago, H. Endo, J. Eckelt, R. Yoshitome, Monolayer X-ray reflectometry at the air-water interface, Chem. Phys. Lett. 295, (1998), pp. 245-248.
• [6] V. Chamard, G. Dolino, G. Lérondel, S. Setzu, X-ray diffraction and reflectometry studies of porous silicon: n-type layers and holographic gratings, Physica B, 248, 1998, pp. 101-103.
• [7] D. J. Strauß, G Steidl, U. Welzel, Parameter detection of thin films from their X-ray reflectivity by support vector machines, Applied Numerical Mathematics, 48, (2004), pp. 223-236.
• [8] B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffraction, reading, Mass: addition-Wesley, 1956.
• [9] D. Dane, A. Veldhuis, D. K. G De Boer, A. J. G Leenaers, L. M. C. Buydens, Application of genetic algorithms for characterization of thin layered material s by glancing incidence X-Ray reflectometry, Physica B, 253, 1998, pp. 254-268.
• [10] P. Pankowski, Magnetyczne i strukturalne własności cienkich warstw Gd - metal przejściowy (V, Cr, Mn), praca doktorska IF PAN, Warszawa 2004.
• [11] User’s Giude - WinGixa, Philips Analytical 2000.
• [12] M. Wojciech, Opracowanie warunków eksperymentalnych w metodzie pomiaru cienkich warstw, praca magisterska, INoM, Katowice 2005.