Modelowanie wieloskalowe w zastosowaniach do nanotechnologii

• Autorzy: Paszyński M.

Warianty tytułu

EN

Multiscale modelling with applications to nanotechnology

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono ideę modelowania wieloskalowego, w którym problemy makro- i mezoskalowyrozwiązywane są w tym samym czasie. Jest to możliwe poprzez równoczesne rozwiązanie równań statyki cząsteczkowej dla problemu mezoskalowego oraz sformułowania wariacyjnego Metodą Elementów Skończonych (MES) dla problemu makroskalowego. Model mezoskalowy zastosowano w tych obszarach, w których konieczna jest duża dokładność rozwiązania, podczas gdy w pozostałych obszarach zastosowano model makroskalowy. Na łączu pomiędzy modelami cząstki modelu mezoskalowego utożsamiane są z węzłami siatki MES. Przedstawiono przykładowe symulacje wieloskalowe procesu nanolitografii (Step-and-Flash Lithography SFIL).

EN

The paper presents an idea of multiscale modelling, where macro- and mezo-scale problems are solved at the same time. It is done by simultaneous solving equations of molecular statics for mezoscale problem and variational formulation by Finite Element Method (FEM) for macroscale problem. On the interface between macroscale and mezoscale models, mezoscale particles are identified with nodes of FE mesh. The presented example involves simulations of the nanolithography process (Step-and-Flash Imprint Lithography SFIL).

Słowa kluczowe

PL

modelowanie wieloskalowe; statyka cząsteczkowa; metoda elementów skończonych; nanolitografia

EN

multiscale analysis; molecular statics; finite element method; imprint lithography

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Hutnik, Wiadomości Hutnicze
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 73, nr 4
• Strony: 188--194
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys.

Twórcy

autor

Paszyński M.

• Paszyński, M. - AGH, Zakład Komputerowego Modelowania Procesów Metalurgicznych; Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej; al. Mickiewicza 30, 30-059 Kraków,

Bibliografia

• 1. SLATEC Common Mathematical Library http://www.netlib. org/slatec.
• 2. Paszyński M., Kurtz J., Demkowicz L.: Parallel Fully Automatic hp Adaptive Finite Element Package, Computer Methods in Applied Mechanics and Engineering, t. 195, 2006, s. 711 -H-741
• 3. Bailey T. C., ColbumM. E., ChoiB. J., Grot A., EkerdtJ. G., Sreenivasan S. V., Willson C. G.: Step and Flash Imprint Lithography: A Low-Pressure, Room Temperature Nanoimprint Patterning Process. Altemative Lithography. Unleashing the Potentials of Nanotechnology. C. Sotomayor Torres, Editor. Elsevier, 2002
• 4. Burns R. L., Johnson S. C., Schmid G. M., Kim E. K., Dickey M. D., Meiring J., Burns S. D., Stacey N. A., Willson C. G.: Mesoscale modelling for SFIL simulating polymerization kinetics and densification, Proc. ŚPIĘ, 2004
• 5. Paszyński M., Romkes A., Collister E., Meiring J., Demkowicz L. F., Willson C. G.: On the modelling of SFIL using molecular statics models, ICES-Report 05-38, praca zgłoszona do International Journal for Numerical Methods in Engineering
• 6. Colburn M. E.: Step and Flash Imprint Lithograpy: A Low Pressure, Room Temperature Nonoimprint Lithography, PhD. Thesis, The University of Texas in Austin, 2001
• 7. Colburn M. E.: Itai Suez, Byung Jin Choi, Meissi Mario, Bailey Todd, Sreenivasan S.V., Ekerdt John E., Willson C. Grant, Characterization and modelling of yolumetric and mechanical properties for SFIL photopolymers, J.Yac.Sci.Technol., B 19, nr 6, 2001