Azotowanie jarzeniowe i technologie PVD w zastosowaniu do modyfikacji powierzchni narzędzi

• Autorzy: Betiuk M. , Kowalski S.

Warianty tytułu

EN

Glow-discharge nitriding and PVD technologies used for the modification of tools surfaces

• Konferencja: Seminarium "Nowoczesne procesy obróbki cieplnej w produkcji narzędzi"
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Technologie azotowania jarzeniowego i PVD umożliwiają wytwarzanie warstw i powłok na narzędziach o cechach multifunkcyjnych. Intencją autorów jest zwrócenie uwagi na tradycyjne i nowe technologie plazmowe duplex HIPIMS. W syntetyczny sposób przedstawiono idee technologii azotowania jarzeniowego na potencjale plazmy, oraz potencjale uzupełniającym. Scharakteryzowano istniejące i nowe technologie PVD oraz wytwarzane na powierzchniach narzędzi materiały powłokowe.

EN

Producing of multifunctional layers and coatings on tools is possible with the use of glow-discharge nitriding and PVD technologies. The intention of authors is to consider the traditional and new plasma duplex magnetron HIPIMS technologies . Ideas of the glow-discharge nitriding technology on the plasma potential and supplementary plasma potential are synthetically described. Already existing and new PVD technologies and processes of producing of coating materials on tool surfaces are characterized.

Słowa kluczowe

PL

azotowanie jarzeniowe; system areologiczny; warstwy typu duplex; warstwa azotowana; powłoka PVD; TiAlN; CrAlN; HIPIMS

EN

glow-discharge nitriding; areologii system; duplex layer; nitriding layer; coatings PVD; TiAlN; CrAlN

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mechaniki Precyzyjnej
• Czasopismo: Inżynieria Powierzchni
• Rocznik: 2010
• Tom: Nr 4
• Strony: 18--26
• Opis fizyczny: Bibliogr. 20 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Betiuk M.

autor

Kowalski S.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Wisiecki M.: Nowoczesne materiały narzędziowe, WNT-Wrszawa 1997.
• [2] Burakowski T.: Rozważania o synergizmie, ITE Ra¬dom 2004.
• [3] Betiuk M.: Rozwój technologii PA PVD-Arc - Po¬włoki nanowarstwowe na narzędziach, Inżynieria Powierzchni, 2008, nr 3, s.65-76.
• [4] Smolik J.: Rola warstw hybrydowych typu warstwa azotowana/powłoka PVD w procesie zwiększenia twardości matryc kuźniczych, Studia i rozprawy ITE-PIB Radom 2007.
• [5] Materiały informacyjne na stronach internetowych: www.balzers.pl, www.platit.com.
• [6] Michalski J., Wach P., Dobrodziej J., Ratajski J., Tacikowski J.: Projektowanie procesów regulowanego azotowania gazowego narzędzi i części maszyn -ogólne wytyczne, Inżynieria powierzchni, 2009, nr 3, s. 3-14.
• [7] Wijngaard J.H.: PVD Coatings in high Speer cutting operations (HSC), Opracowanie Balzers 2001.
• [8] Chim Y.C., Ding X.Z.,. Zeng XT, Zhang S.: Oxidation resistance of TiN, CrN, TiAlN and CrAIN coat¬ings deposited by lateral rotating cathode arc, Thin Solid Films 517 (2009) s. 4845-4849.
• [9] Trojanowski J., Nakonieczny A., Babul T., Wierzchoń T.: Procesy azotowania i węgloazotowania jarzeniowego w motoryzacji - przykłady zastosowań, Inżynieria Powierzchni, 2007, nr 4, s.3-8.
• [10] Walkowicz J.: Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni , Studia i Rozprawy ITE Radom 2003.
• [11] Betiuk M.: Plazma niskociśnieniowa w inżynierii powierzchni Inżynieria powierzchni Nr 2 -2009 s.65-76
• [12] Michalski J., Tworzenie się warstw powierzchniowych azotku i węglika tytanu w procesach krystalizacji z fazy gazowej w atmosferach chlorkowych, Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa 2001.
• [13] Betiuk M., Kowalski S.: Azotowanie jarzeniowe na potencjale uzupełniającym, Nowoczesne Technologie w Inżynierii Powierzchni, materiały konferen¬cyjne Spała 2010, artykuł w druku.
• [14] Miernik K.: Próżniowe źródła łukowe, Elektronika 1999, nr 4,5.5-16.
• [15] Markowski J.: Twarde powłoki PVD nanoszone na narzędzia metodą BARE, Inżynieria powierzchni, 2005, nr 2, s. 31-35.
• [16] Miernik K.: Działanie i budowa magnetronowych urządzeń rozpylających, Biblioteka Problemów Eksploatacji, Radom 1997.
• [17] Posadowski W.: Niekonwencjonalne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich powłok, Wydawnictwa Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
• [18] Ehiasarian A.P., Munz W.-D., Hultman L, i inni : High Power Pulsed Magnetron Sputtered CrNx Films, Galvanotechnik 2003, nr 6, s. 1480-1487.
• [19] Munz W.D., Schenkel M., Kunkel S., Paulitsch J., Bewilogua K.: Industrial Applications of HIPIMS, Journal of Physics: Conference Series 100, 2008.
• [20] Biuletyn : Hauser Techno Coating PVD/PA CVD Technology, 2010, nr: 16, 17.