Wpływ budowy fazowej i stru-ktury warstw powierzchniowych tlenoazotowanego tytanu na odporność koro-zyjną w wodnym roztworze kwasu siarkowego

• Autorzy: Pogreluk I. , Tkacuk O. , Proskurniak R.

Warianty tytułu

EN

Influence of the phase and structural composition of the surface layers of titanium after oxynitriding on their corrosive behaviour in aqueous solution of sulfuric acid

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Badano wpływ budowy fazowej i struktury warstw powierzchniowych tlenoazotowanego tytanu Ti-6,3Al- 2,0Zr-1,7V-1,3Mo na jego odporność korozyjną w wodnym roztworze kwasu siarkowego. Stwierdzono, że właściwości antykorozyjne stopu są określane przez wzajemny stosunek grubości strefy tlenoazotkowej i tlenkowej w warstwie modyfikowanej oraz do jej całkowitej grubości.

EN

Influence of the phase and structural composition of the surface layers of Ti-6,3Al-2,0Zr-1,7V-1,3Mo titanium alloy after oxynitriding on their corrosive behaviour in aqueous solution of sulfuric acid has been investigated. It is established that protective properties of alloy are determined by ratio of oxynitride and oxide components in the modified surface layer thickness to its total thickness.

Słowa kluczowe

PL

tlenoazotek tytanu; nasycanie cieplno-dyfuzyjne; kwas siarkowy; odporność korozyjna

EN

titanium oxynitride; thermodiffusion saturation; sulfuric acid; anticorrosive protection

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mechaniki Precyzyjnej
• Czasopismo: Inżynieria Powierzchni
• Rocznik: 2010
• Tom: Nr 1
• Strony: 50--55
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Pogreluk I.

autor

Tkacuk O.

autor

Proskurniak R.

• Fizyko-Mechaniczny Instytut im. G.W. Karpenki UAN – Lwów, Ukraina

Bibliografia

• [1] Krysa J., Mraz R., Rousar l.: Corrosion rate of titanium in H2SO4. Materials Chemistry and Physics. 1997,48(1), p. 64-67.
• [2] Jian-shu Lu: Corrosion of titanium in phosphoric acid at 250 °C. Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2009, 19 (3), p. 552-556.
• [3] Massiani V., Medjahed A., Gravier P., Argeme L., Fedrizzi L.: Electrochemical study of titanium nitride films obtained by reactive sputtering. Thin Solid Films. 1990, 191, p. 305-316.
• [4] Trufanov A.A., Katsov K.B., Zhitomirskii V.N.: Effect of nitride coatings on corrosion and electrochemical properties of technical titanium. Materials Science. 1990,25(5), p. 526-529.
• [5] Rolinski E.: Surface Properties of Plasma-nitrided Titanium Alloys. Materials Science and Engineering. 1989, A108, p. 37-44.
• [6] Śvejkin G.P., Aljamovskij S.l., Zajnulin Ju.G. i inni.: Soedinenija peremennogo sostava i ich tverdyje rastvory. Sverdlovsk: UNU AŃ SSSR. 1984, 294 s.
• [7] Min J. Jung, Kyung H. Nam, Yun M. Chung, Jin H. Boo, Jeon G. Hań: The physiochemical properties of TiOxNy films with controlled oxygen partial pressure. Surface and Coatings Technology. 2003, 171, p. 71-74.
• [8] Martin N., Sanjines R., Takadoum J., Levy F.: Enhanced sputtering of titanium oxide, nitride and oxynitride thin films by the reactive gas pulsing technique. Surface and Coatings Technology. 2001, 142-144, p. 615-620.
• [9] Alves E., Ramos A.R., Barradas N.P., Vaz F., Cerqueira P., Rebouta L., Kreissig U.: łon beam studies of TiNxOy thin films deposited by reactive magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology. 2004, 180, 181, p. 372-376.
• [10] Pogreljuk l.N., Fedirko V.N., Tkaćuk O.V.: Vpliv rozrizżenja kisnevmisnogo seredoviśća na formuvannja oksinitridiv titanu. Fiziko-chimićna mechanika materialiv. 2008, t.44, nr 1, s. 56-60.
• [11] Pogreljuk l.N, Tkaćuk O.V, Fedirko V.N.: Ylijanie temperatury i stepeni razreżenija kislorodosoderżasćei sredy na process oksinitrirovanija tytanovych splavov. Metallovedenije i termićeskaja obrabotka metallov. 2009, nr 4, (646), s. 26- 30.
• [12] Fedirko V.M., Yas'kiv O.l. , Pohrelyuk l. N.: Influence of parameters of nirtided layers on corrosion resistance of titanium alloys in solutions of acids. Materials Science. 1999, 35(6), p. 883-887.
• [13] Vaughan J., Alfantazi A.: Corrosion of titanium and its alloys in sulfuric acid in the presence of chlorides. J. Electrochem. Soc., 153 (1) 2006, B6-B12.