Nowe struktury korygowanych laserem rezystorów warstwowych zapewniające poprawę dokładności strojenia i stabilności

• Autorzy: Wroński M.

Warianty tytułu

EN

New laser trim film resistors with improved resolution and stability

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono i przeanalizowano nowe struktury korygowanych laserem rezystorów warstwowych typu "kapelusza" i o kształcie ,,0" z cięciem prostym i dodatkowym kontaktem przewodzącym (zworą) w ich górnej części. Wprowadzenie zwory umożliwia uzyskanie istotnej poprawy czułościowych charakterystyk strojenia nie tylko zmniejszając wartość zmiany rezystancji względem długości cięcia, ale także zmieniając charakter krzywej z rosnącego na opadający. Jest to bardzo pożądane ze względu na wzrost dokładności strojenia. Następuje także eliminacja lokalnych przegrzewów - tzw. "gorących punktów" występujących na końcu cięcia. W związku z tym można oczekiwać znacznego wzrostu niezawodności i stabilności rezystorów, W artykule zaprezentowano także nowy, oparty na metodzie kolejnych odwzorowań konforemnych, bardzo szybki i efektywny sposób numerycznego wyznaczania charakterystyk strojenia analizowanych struktur.

EN

In this paper new laser trim structures of the popular top-hat and U-shaped resistors with a plunge cut and with an additional contact (short-circuit jumper) on the top of such resistors are presented and analysed. This enables us to achieve substantial improvement of sensitivity characteristics not only by decreasing the value of the rate of resistance change with respect to the trim depth, but also by changing the shape of the curve from rising to falling down, which is most desired in the trimming process as higher resolution can be achieved. Also local overheating (so-called "hot zone") at the end of the cut is eliminated, as higher reliability and stability can be achieved. Basing on the method of successive conformal mappings, a new effective method for computing trim characteristics of such structures has been elaborated as well.

• Wydawca: Wydział Elektroniki, Telekomunikacji i Informatyki Politechniki Gdańskiej
• Czasopismo: Zeszyty Naukowe Wydziału ETI Politechniki Gdańskiej. Technologie Informacyjne
• Rocznik: 2004
• Tom: T. 5
• Strony: 867--874
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., 4 rys.

Twórcy

autor

Wroński M.

• Katedra Systemów Mikroelektronicznych, Politechnika Gdańska

• Katedra Systemów Mikroelektronicznych, Politechnika Gdańska

Bibliografia

• [1] Schimmanz K., Jacobsen S.M.: Film Resistor Design for High Precision Laser Trimming German preprint BTU-Cottbus M-02/02, 13 pages.
• [2] Bube K.R., Miller A.Z., Howe A., Antoni B.: Influence of Laser-Trim Conflguration on Stability of Smali Thick-Film Resistors, W: Solid State Technology, Nov.l978, pp.55-60.
• [3] Ronniger R., Experience with Trimming of Chip Resistors and how to Improve Trimming Results with CAD Simulation and Thick Film Process Control, W: Hybrid Circuits, No.9, Jan. 1986, pp.40-43.
• [4] Chaudhry M.A., Design Optimisation of Integrated Circuit Thin-film Resistors with Slit and Curved Boundaries, W: Microelectronics International, No.40, May 1996, pp.17-21.
• [5] Filczakoy P.F, Pribliżennyje Metody Konformnych Otobrażenij, N.Dumka, Kijev, 1964.
• [6] Wroński M., Analysis, Synthesis and Optimisation of Muiticontact Distributed Resistive Networks, W: Proc. of the 12th ECCTD, vol.2, Istanbul, Turkey, Aug.1995, pp.925-928.
• [7] Jermołajev Ju.P., Perspektivnyje I racjonalnyje konstrukcji pieczatnych soprotivlenij w mitominjaturnoj apparature, W: Izvestja Vuzov ZSRR - Raditechnika, t.5, No. 4, 1962, str. 469-475,
• [8] ChawaJa B. R. and Gummel H. K., A boundary technique for calculation of distributed resistanc, W: IEEE Trans, on Electron Devices, vol..ED-17, Oct. 1970, pp. 915-925.
• [9] Wroński M., Sposób korekcji wartości rezystancji rezystorów warstwowych, Zgłoszenie patentowe P.356950 z dn. 4.11.2002, 11 str.