Plazma niskociśnieniowa w inżynierii powierzchni

• Autorzy: Betiuk M.

Warianty tytułu

EN

Low-pressure-plasma in the surface engineering

• Konferencja: Seminarium Instytutu Mechaniki Precyzyjnej. Obróbka cieplna i cieplno-chemiczna stali konstrukcyjnych i narzędziowych (17.06.2009 ; Poznań, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono syntetyczny opis środowiska plazmy niskociśnieniowej generowanej w wyładowaniach elektrycznych stałoprądowych( DC) prądu zmiennego niskiej (AC), wysokiej częstotliwości (RF), oraz promieniowania mikrofalowego (MF) stosowanego do obróbki powierzchni metali, ceramiki, półprzewodników, tworzyw sztucznych. Zaprezentowano wybrane zastosowania technologii plazmy niskociśnieniowej w inżynierii powierzchni.

EN

Description of the environment low-pressure-plasma generated in electric discharges DC, the alternating current of low (AC) and high-frequency ( RF), and the microwave radiation (MF) applied to processing surface of metals, ceramics, semiconductors, plastics is presented in synthetic way. Applications of technology of low-pressure-plasma in the surface engineering were selected and shown.

Słowa kluczowe

PL

plazma niskociśnieniowa; plazma DC; plazma AC; plazma RF; plazma MF; azotowanie jarzeniowe; PA PVD-Arc; PA PVD-MS; PA PVD-BARE; powłoki PVD

EN

low-pressure plasma; plasma DC; plasma AC; plasma RF; plasma MF; glow-discharge nitriding; PA PVD-Arc; BYE-BYE PVD-MS; PVD-BARE; PVD coatings

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mechaniki Precyzyjnej
• Czasopismo: Inżynieria Powierzchni
• Rocznik: 2009
• Tom: Nr 2
• Strony: 63--76
• Opis fizyczny: Bibliogr. 23 poz., rys.

Twórcy

autor

Betiuk M.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Czernietski A. :Wstęp do fizyki plazmy PWN, Warszawa 1971.
• [2] Celiński Z.: Plazma, Biblioteka problemów, PWN, Warszawa 1980.
• [3] Kordus A: Właściwości i zastosowania w technice, WNT, Warszawa 1982.
• [4] Szymański A.: Chemia plazmy niskotemperaturowej. Praca zbiorowa, WNT Warszawa 1983.
• [5] Krall N.A: Trivelpiece A.W.: Fizyka plazmy. PWN. Warszawa 1979.
• [6] Sokołowska A: Niekonwencjonalne środki syntezy materiałów. WN PWN. Warszawa 1991.
• [7] Michalski A. Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej. WPW, Warszawa 2000.
• [8] Walkowicz J.: Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni. ITeE, Radom 2003.
• [9] Markowski J.: Twarde powłoki nanoszone na narzędzia metodą BARE, "Inżynieria Powierzchni" 2, 2005, s.19-22.
• [10] Smolik J.: Rola warstw hybrydowych typu warstwa azotowana/powłoka PVD w procesie zwiększenia trwałości matryc kuźniczych. ITeE, Radom 2007.
• [11] Czechowski K., Pofelska-Filip I., Fedaczyński A: Powłoki PVD na płytkach skrawających z materiałów ceramicznych. "Inżynieria Powierzchni" 2,2005, s. 19-24.
• [12] Czechowski K., Wronska I., Plenczor P.: Własności użytkowe płytek skrawających z węglików spiekanych z nanostrukturalnymi powłokami zawierającymi azotki CrN i TiAIN naniesionymi metodą łukową. "Inżynieria Materiałowa", 6 (166),2009, s.724-727
• [13] Betiuk M.: Technologie PVD i PAPVD w praktyce. "Inżynieria Powierzchni" 2,2005,s. 3-13.
• [14] Betiuk M., Burdyński K.: Wykorzystanie spektralnej analizy plazmowej do sterowania procesem syntezy powłoki TiAIC. "Inżynieria Powierzchni", 4,2007,s. 23-28.
• [15] Materiały publikowane na stronie internetowej WWW.diner.de, rok 2009.
• [16] Dobrzański L., Lukaszkowicz K., Pakuła D.: Corrosion resistance of multilayer and gradient coatings deposition by PVD and CVD techniques. "Archives of Materials Science and Engineering", Volume 28, January 2007, s. 12-18.
• [17] Trojanowski J., Nakonieczny A, Babul T., Wierzchoń T.: Procesy azotowania i węgloazotowania jarzeniowego w motoryzacji - przykłady zastosowań. "Inżynieria Powierzchni" 4,2007,s. 3-8.
• [18] Dobrzański L, Staszuk M., Gomołek K, Mikuła J.: Struktura i własności powłok PVD naniesionych na silanową ceramikę narzędziową. "Inżynieria Materiałowa", Nr 6 (166), 2008, s.728-731.
• [19] Czyżniewski A.: Wytwarzanie cienkich powłok węglikowych modyfikowanych wolframem. "Inżynieria Materiałowa", Nr 6 (166),2008, s. 772-776.
• [20] Miernik K.: Działanie i budowa magnetronowych urządzeń rozpylających. Biblioteka Problemów Eksploatacji, Radom 1997.
• [21] Posadowski W.: Nowoczesne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
• [22] ldanowski J., Oleszkiewicz W.: Rola jonów w procesach nanoszenia warstw cienkich z fazy gazowej. Konf.: "Modern Plasma Technology", Kołobrzeg 2000, s.75-136.
• [23] Michalski J.: Tworzenie się warstw powierzchniowych azotu i węglika tytanu w procesach krystalizacji z fazy gazowej w atmosferach chlorkawych. Wyd. IMP, Warszawa 2001.