Wykorzystanie spektralnej analizy plazmowej do sterowania procesem syntezy powłoki TiAlC

• Autorzy: Betiuk M. , Burdyński K.

Warianty tytułu

EN

The TiAIC synthesis process assisted by plasma spectral emission signal controlling

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Niniejsza praca pokazuje możliwości otrzymywania powłoki TiAlC za pomocą chemicznej reakcji między jonami tytanu a prekursorem metaloorganicznym zawierającym aluminium. Zawartość aluminium w powłoce ma duży wpływ na jej właściwości mechaniczne i chemiczne. W niniejszych badaniach nad technologią MOPVD skupiono się nad rejestracją spektralnych sygnałów emisyjnych jonów Al+ i Ti+ oraz nad składem chemicznym powstałych faz. Taki rodzaj synergizmu był w pracy analizowany. W badaniach starano się zbadać możliwość wykorzystania komputerowej kontroli procesu w trakcie trwania procesu syntezy powłoki. Głównym celem prezentowanych badań była synteza powłoki TiAlC. W trakcie procesów MOPVD badane były podstawowe parametry takie jak: ciśnienie i skład chemiczny atmosfery ponieważ te parametry miały największy wpływ na właściwości otrzymanych powłok.

EN

The possibility to obtain the TiAlC coatings by chemical plasma reactions between titanium ions and metaloorganic precursors (which contain an aluminum) is showed in this paper. Aluminum content in coatings of this type has a huge influence on their mechanical and chemical properties. In our studies of MO PVD technology we were focused on registration of spectral emission lines signals from Al+ and Ti+ ions and of chemical composition of occurred phases. This kind of synergism was analyzed. We tried to predict a possibility of application computer control of the plasma synthesis process. The main aim of our study was to work out plasma synthesis process of TiAlC coatings with plasma spectral emission signal control. Fundamental parameters like: pressure, chemical composition of atmosphere were investigated during the MO PVD processes because this factors have significant influence on phase and chemical structure of deposited coatings.

Słowa kluczowe

PL

MOPVD; TiAlC; analiza plazmy

EN

MOPVD; TiAlC; plasma analyze

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Mechaniki Precyzyjnej
• Czasopismo: Inżynieria Powierzchni
• Rocznik: 2007
• Tom: nr 4
• Strony: 23--28
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Betiuk M.

autor

Burdyński K.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Betiuk M., Burdyński K., Baum H., Nakonieczny A., Przywóski A., Szudrowicz A.: „New technology MO-PVD-arc multilayers producing by plasma atmosphere of AI(CH3)3,".: Proceeding of the conference on Heat Treatment and surface engineering of tools and dies, 2005, Pula, Chorwacja, s. 323-328.
• [2] Tanaka K., Yanashima H, Yako T., Kamio K., Sugai K, Kishida S.: „Aluminum chemical vapor deposition reaction of dimethylauminum hybride on TiN studied by X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry", Applied Surface Science, 171 (2001) s. 71-81.
• [3] Wierzchoń T., Sobiecki J.R.:, „The PACVD method for surface layer deposition using a glow discharge in H2+N2+Ti(OC3H7)4, Vacuum, 44, nr. 10, (1993) s. 975-978.
• [4] Kułakowska-Pawlak B., Żyrnicki W.: „Spectroscopic investigation into plasma used for nitriding processes of steel and titanium", Thin Solid Films, 230 (1993) s.115-120.