Tytuł artykułu
Identyfikatory
Warianty tytułu
Plasmachemical Processing of Postincineration Solid Wastes. 1. Efficiency of Plasma Melting of Wastes
Języki publikacji
Abstrakty
Przepisy prawne UE nie dopuszczają składowania stałych odpadów, powstających podczas spalania odpadów komunalnych. Wciąż poszukiwane więc są nowe metody neutralizacji tych uciążliwych bądź szkodliwych odpadów. W pracy przedstawiono wyniki przetapiania plazmowego stałych pozostałości (żużel, popiół i pył lotny) spalania odpadów komunalnych w jedynej w Polsce spalarni w Warszawie. Proces prowadzono w układzie przepływowym w dwóch systemach reakcyjnych: łukowej oraz indukcyjnej plazmie termicznej. Badano wpływ parametrów procesowych (entalpia plazmy i uziarnienie surowca) na stopień przetopienia reagentów. Morfologię reagentów badano, stosując technikę mikroskopową. Uzyskano stopień przetopienia reagentów sięgający niemal 100% w przypadku najdrobniejszego, a zarazem najbardziej uciążliwego odpadu - pyłu lotnego.
Existing and forthcoming legislation and regulations prohibit the dumpling of incineration ashes from waste incineration plants. Thus, new techniques to neutralize these noxious wastes are urgently sought. In the present study the results of plasma processing of solid residues (slag, bottom ash and fly ash) resulting from incineration of MSW in the only Polish incinerator in Warsaw are presented. The process has been carried out in a flow mode of operation in two different reaction systems using a rotating arc or induction thermal plasma. The influence of process parameters (plasma enthalpy, reactant particle size) on the melting efficiency has been studied. The product morphology has been investigated by using a microscopic technique. A high melting close to 100% was achieved for the finest waste - fly ash which is also the most noxious waste of all postincineration soild residues.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
189--198
Opis fizyczny
Bibliogr. 6 poz., rys., tab.
Twórcy
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, ul. L. Pasteura 1, 02-093 Warszawa
autor
- Plasma Technology Research Center, University of Sherbrooke, G7H 2B1 Sherbrooke, P.Q., Canada
autor
- Plasma Technology Research Center, University of Sherbrooke, G7H 2B1 Sherbrooke, P.Q., Canada
Bibliografia
- [1] Lebrun F., Oberlin C., Pasquini P. i Fante R.: High Temp. Mat. Proc., 2001, 5, 291-298.
- [2] Chemia plazmy niskotemperaturowej, praca zbiorowa. WNT, Warszawa 1978.
- [3] Huczko A.: Wiad. Chem., 1994, 48(7-8), 457-480.
- [4] Huczko A.: Wiad. Chem., 1994, 48(9-10), 567-592.
- [5] Huczko A., Chojecki G., Golimowski J., Kowalska J., Dziadko D., Tanaka H. i Ishigaki T.: Chem. Inz. Ekol., 2002, 9(1), 9-20.
- [6] Chojecki G.: Praca dyplomowa. Wydział Chemii, Uniwersytet Warszawski, Warszawa 2000.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPG1-0014-0006