Wpływ powłoki Al2O3 na przebieg utleniania stopu Ti-46Al-7Nb-0,7Cr-0,1Si-0,2Ni na osnowie fazy [gamma] -TiAl

• Autorzy: Małecka J.

Warianty tytułu

EN

The influence of an Al2O3 coating on the oxidation behaviour of a [gamma] - TiAl intermetallic phased based Ti-46Al-7Nb-0,7Cr-0,1Si-0,2Ni alloy

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono wyniki utleniania izotermicznego stopu Ti-46Al-7Nb-0,7Cr- 0,1Si-0,2Ni na osnowie fazy międzymetalicznej [gamma] -TiAl z naniesioną powłoką Al2O3. Utlenianie przeprowadzono w atmosferze powietrza w temperaturze 900oC i 950°C. Stwierdzono, iż naniesiona powłoka powoduje obniżenie szybkości utleniania i przyczynia się do mniejszych przyrostów masy.

EN

Test results of isothermal oxidation of a [gamma] -TiAl intermetallic phase based Ti-46Al-7Nb- 0,7Cr-0,1Si-0,2Ni alloy coated with Al2O3 are presented. Oxidation was carried out under an air atmosphere at 900oC and 950°C. It was determined that the Al2O3 coating is very effective in reducing the oxidation rate of [gamma]-TiAl.

Słowa kluczowe

PL

korozja wysokotemperaturowa; gamma TiAl; utlenianie; powłoka Al2O3

EN

high temperature corrosion; gamma-TiAl; oxidation; Al2O3 coating

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Ochrona przed Korozją
• Rocznik: 2011
• Tom: nr 12
• Strony: 670--674
• Opis fizyczny: Bibliogr. 28 poz., il.

Twórcy

autor

Małecka J.

• Katedra Technologii Maszyn i Automatyzacji Produkcji, Wydział Mechaniczny, Politechnika Opolska,

Bibliografia

• 1. Y.W. Kim, M.D. Dimduk, J. Metals, 43 (1991) 40.
• 2. M. Yoshihara, Y.W. Kim, Intermetallics, 13 (2005) 952.
• 3. M. Yamaguchi, H. Inui H, K. Ito, Acta Materialia, 48 (2000) 307.
• 4. S.A. Kakare, J.B. Toney, P.B. Aswath, Metallurgical and Materials Transactions 26A (1995) 1835.
• 5. K.S. Chan, Metallurgical Mater. Trans., 23A (1992) 497-507.
• 6. A. Takasaki, Y. Furuya, Y. Taneda, Metallurgical Mater.Trans., 29A (1998) 307.
• 7. L.H. Qu, L. Zhou, Y.G. Wei, Y.Q. Zhao, 10th World Conference on Titanium, Hamburg 2003, in Ti-2003 Science and Technology, ed. by G. Luetjerung and J.Albrecht, IV (2004) 2449.
• 8. S. Król, M. Prażmowski, Inż. Mater., 3 (2006) 456.
• 9. J. Małecka, A. Hernas, Ochr. przed Koroz., 53, 10, (2010) 486.
• 10. L. Huang, P.K. Liaw, C.T. Liu, Oak Ridge National Laboratory, Managed by UT Battelle for the Department of Energy, Proceedings Paper, Session II, 13 June 2005.
• 11. N. Toshio, I. Takeshi, M. Yatagai, T. Yoshioka, Intermetallics 8 (2000) 371.
• 12. Bong Goo Kim, Gil Moo Kim, Chong Jip Kim, Scripta Metallurgica et Materialia, 33 (1995) 1117.
• 13. S. Król, Ochr. przed Koroz., 48, 115/A (2005) 194.
• 14. Y. Wu, K. Hagihara, Y. Umakoshi, Intermetallics, 13 (2005) 879.
• 15. V. Shmet, M. Yurechko, A.K. Tyagi, W.J. Quadakkers, L. Singheiser, Minerals, Metals & Materials Society (1999) 783.
• 16. Ł. Kaczmarek, B. Wendler, Inż. Mater., 153, 5, (2006) 1035.
• 17. I. Takeshi, N. Takumi, N. Toshio, Intermetallics, 13 (2005) 727.
• 18. Liu Zhenyu, Wang Guodong, Mater. Sci. Eng., A397 (2005) 50.
• 19. Z. Tang, L. Niewolak, V. Shemet, L. Sinsheiser, W.J. Quadakkers, F. Wang, W. Wu, A. Gil, Mater. Sci. Eng. A328 (2002) 297.
• 20. L. Swadzba, G. Moskal, M. Hetmańczyk, B. Mendala, G. Jarczyk, Surf. Coat. Technol., 184 (2004) 93.
• 21. S. Mridha, H.S. Ong, L.S. Poh, P. Cheang, J. Mater. Proces. Technol., 113 (2001) 516.
• 22. W.M. Posadowski, Niekonwencjonalne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw, OWPW Wrocław 2001.
• 23. S. Berg, T. Nyberg, Thin Solid Films, 476 (2005) 215.
• 24. J. Dora, Patent nr 178285, zgł. 1996.06.
• 25. W.M. Posadowski, A. Wiatrowski, J. Dora, Z.J. Radzimski, Thin Solid Films, 516 (2008) 4478.
• 26. W.M. Posadowski, Opracowanie własne.
• 27. J. Małecka, W. Grzesik, A. Hernas, Corros. Sci., 52 (2010) 263.
• 28. J.L. Smialek, J.A. Nesbitt, C.A. Barrett, C.E. Lowell, Raport NASA, ITM-1999-209769, 2000.