Powiadomienia systemowe
- Sesja wygasła!
Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Preparation of SiO2 coatings, by using PECVD technique, for magnesium alloys to improve corrosion resistance
Konferencja
Ogólnopolska Konferencja "Korozja 2011" (10 ; 12-16.06.2011 ; Rytro, Polska)
Języki publikacji
Abstrakty
W pracy przedstawiono wpływ powłok SiO2 wytworzonych w procesie plazmowym PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition), z wykorzystaniem plazmy wysokiej częstotliwości (13,56 MHz), na właściwości korozyjne stopów magnezu AZ31, AZ32, AZ91. Na każdym ze stopów Mg wykonano powłoki SiO2 o trzech grubościach: 12, 22 i 44 nm. Właściwości korozyjne badanych powłok określono na podstawie analizy krzywych woltamperometrycznych. Uzyskane wyniki pokazują wzrost odporności korozyjnej stopów magnezu, wraz ze wzrostem grubości osadzonej powłoki tlenkowej. Największy spadek wartości gęstości prądu korozyjnego zaobserwowano dla stopu AZ91 z powłoką tlenkową o grubości 44 nm. Dla pozostałych stopów magnezu wartości gęstości prądu korozyjnego, dla tej powłoki, również spadają ale w znacznie mniejszym stopniu. We wszystkich przypadkach natomiast tj. dla czystych stopów jak i dla stopów wraz z powłoką tlenkową zaobserwowano występowanie korozji wżerowej.
In this work, the influence of SiO2coatings produced in the radio frequency plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) on the corrosion properties of magnesium alloys AZ31, AZ32 and AZ91, has been reported. At each Mg alloy the SiO2 coatings with three different thicknesses: 12, 22 and 44 nm, was performed. Corrosion properties of investigated coatings was based on analysis of the voltammetric curves. Presented results have shown an increase in corrosion resistance of magnesium alloys, with increasing thickness of the deposited oxide film. The largest decrease of corrosion current was observed for the AZ91 alloy coated with an oxide thickness of 44 nm. For other values of magnesium alloys corrosion current decreased but in a much lesser extent. In all cases, for pure alloys and for alloys with the oxide coating was observed pitting corrosion.
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
275--277
Opis fizyczny
Bibliogr. 6 poz., il.
Twórcy
Bibliografia
- 1. Y.T. Kim et al., "PECVD SiO2 and SiON films dependant on the rf bias Power for lowloss silica waveguide" Thin Solid Films 475, 271-274 (2005)
- 2. A. Boogaard, "Plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon dioxide: Optimizimg dielectric films through plasma characterization" Ph.D Thesis, MESA+ Institute for Nanotechnology (2011)
- 3. J. Olivares Roza et al., "Plasma assisted chemical vapour deposition silicon oxide films grown from SiH4 + NH3 + O2 gas mixtures" Journal of Vacuum Science and Technology A, 16, 2757-2761 (1998)
- 4. M. Jagadesh Kumar et al., "Selective Reactive Ion Etching of PECVD silicon nitride over amorphous silicon in CF4/H2 and nitrogen containing CF4/H2 plasma gas mixtures" Solid State Electronics 39, 1, 33-37 (1996)
- 5. X.L. Zhang, Zh.H. Jiang, Zh.P. Yao, Y. Song, Zh.D. Wu, Corrosion Science, 51, 3, (2009) 581
- 6. S.D. Cramer, S.B. Covino Jr., ASM Handbook: Corrosion: Fundamentals, Testing, and Protection, ASM International, 2003.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPBA-0010-0004