Efekty "podłożowe" a morfologia warstw w metodzie IPD

• Autorzy: Wierzbiński E. , Zdunek K.

Warianty tytułu

EN

"Substrate-effects" and films morphology in impulse plasma deposition method

• Konferencja: Ogólnopolskie Seminarium "Techniki Jonowe" ( 8 ; 12-14.03.2003 ; Szklarska Poręba, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W poniższych badaniach przedstawione zostały zależności morfologii powłok TiN otrzymanych metodą IPD od parametrów przeprowadzania procesów oraz materiału podłoży. Dodatkowym rezultatem badań jest obserwacja różnic w morfologii otrzymanych warstw od geometrii uktadu oraz anizotropowa budowa i rozmieszczenie nanokrystalitów tworzących powłokę.

EN

This paper presents a study of synthesis layers in conditions of impulse mass and energy transport. In this case we used Impulse Plasma Deposition method (IPD). The synthesis processes were conducted in a device equipped with two independent and alternately working accelerators of impulse plasma. The sources of Fe and Ti were the internal electrodes of these impulse plasma accelerators, made of titanium and iron. The plasma-generating gas was argon. The layers were deposited on silicon substrates. The material synthesized in the present experiment was an Fe-Ti alloy.

Słowa kluczowe

EN

PA PVD/CVD; IPD method; TM AFM

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2003
• Tom: Vol. 44, nr 11
• Strony: 37--38
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., il.

Twórcy

autor

Wierzbiński E.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska

autor

Zdunek K.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska

Bibliografia

• 1. M. Sokołowski, A. Sokołowska: J. Cryst. Growth, 57 (1982) 185.
• 2. A. Michalski, Z. Romanowski: J. Cryst. Growth, 61 (1983) 675.
• 3. M. Sokołowski: J. Cryst. Growth, 54 (1981) 519.
• 4. A. Sokołowska, K. Zdunek, H. Grigoriew, Z. Romanowski: J. Mater. Sci., 21 (1986) 763.
• 5. J. Konwerska-Hrabowska, K. Zdunek, J. Szmidt, A. Sokołowska, L. Nowicki: J. Chem. Vapour Deposition Vol. 3 (1994) 156.
• 6. J. Szmidt, A. Werbowy, K. Zdunek, A. Sokołowska, J. Konwerska-Hrabowska, S. Mitura: Diam. Relat. Mater. 5 (1996) 564.
• 7. A. A. Bochkarev, V. I. Poliakova, M. V. Pukhovoy: Thin Solid Films, 9 (1999) 343.