Kondensacja warstwy w warunkach impulsowego dostarczania masy i energii

• Autorzy: Nowakowska-Langier K. , Wierzbiński E. , Zdunek K. , Kopcewicz M.

Warianty tytułu

EN

Condensation of layer in conditions of impulse mass and energy transport

• Konferencja: Ogólnopolskie Seminarium "Techniki Jonowe" ( 8 ; 12-14.03.2003 ; Szklarska Poręba, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule opisane zostały badania nad syntezą warstw w warunkach impulsowego dostarczania masy i energii. Do tego celu została wykorzystana metoda IPD. Procesy syntezy prowadzone byty w urządzeniu wyposażonym w dwa niezależnie i niewspółbieżnie (naprzemiennie) pracujące akceleratory plazmy impulsowej. Źródłem żelaza i tytanu byty wewnętrzne elektrody akceleratorów. Gazem plazmotwórczym byt argon. Warstwy nanoszone byty na podłoża krzemowe. Materiałem syntetyzowanym w prezentowanym eksperymencie byt stop Fe-Ti.

EN

This paper presents a study of synthesis layers in conditions of impulse mass and energy transport. In this case we used Impulse Plasma Deposition method (IPD). The synthesis processes were conducted in a device equipped with two independent and alternately working accelerators of impulse plasma. The sources of Fe and Ti were the internal electrodes of these impulse plasma accelerators, made of titanium and iron. The plasma-generating gas was argon. The layers were deposited on silicon substrates. The material synthesized in the present experiment was an Fe-Ti alloy.

Słowa kluczowe

PL

PA PVD/CVD; metoda IPD; warstwy Fe-Ti

EN

PA PVD/CVD; impulse plasma deposition method; Fe-Ti alloy

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2003
• Tom: Vol. 44, nr 11
• Strony: 35--36
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., il.

Twórcy

autor

Nowakowska-Langier K.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska

autor

Wierzbiński E.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska

autor

Zdunek K.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska

autor

Kopcewicz M.

• Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych, Warszawa

Bibliografia

• 1. M. Sokołowski: J. Cryst. Growth, 54 (1981) 519.
• 2. A. Sokołowska, K. Zdunek, H. Grigoriew, Z. Romanowski: J. Mater. Sci., 21 (1986) 763.
• 3. K. Zdunek, T. Karwat: Vacuum, 47 (1996) 1391.
• 4. M. Rabinski, K. Zdunek: Vacuum, 48 (1997) 715.
• 5. K. Zdunek: Surf. Coat. Technol., 74 (1995) 949.
• 6. M. Sokołowski, A. Sokołowska: J. Cryst. Growth, 57 (1982) 185.
• 7. E. Granovski, A. Fridman, W. Altman, P. Pashkoov: Fiz. Miet. Mietall., 28 (1969) 1096.
• 8. M. Kopcewicz: Encyklopedia of Applied Physics, vol. 11, VCH Publishers, Inc. 1994.
• 9. E. Makarov, V. Povitskij, E. Granowski, A. Fridman: Phys. Stat. Sol., 24 (1967) 45.
• 10. C. L. Chien, S. H. Liou: Phys. Rev. B, 31 (1985) 8238.
• 11. K. Zdunek: J. Mater. Sci., 26 (1991) 4433.
• 12. M. Zijlstra: IEEE Trans. Magn., MAG 6, 2 (1970) 179.