Metody sterowania procesami reaktywnego jonowego rozpylania

Leja, E.; Stec, A.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Metody sterowania procesami reaktywnego jonowego rozpylania

Autorzy

Leja E. , Stec A.

Identyfikatory

Warianty tytułu

Process control methods for reactive ion sputtering

Konferencja

Ogólnopolskie Seminarium "Techniki Jonowe" ( 8 ; 12-14.03.2003 ; Szklarska Poręba, Polska)

Języki publikacji

Abstrakty

Duża szybkość osadzania powłok jest jednym z wymogów stawianych urządzeniom do reaktywnego jonowego rozpylania. Aby to osiągnąć, proces musi odbywać się w trudnym do kontrolowania przejściu po-między trybem metalicznym a reaktywnym. W artykule przedstawiono kilka metod stosowanych obecnie do sterowania takim procesem.

High rate deposition is one of requirements for reactive sputtering devices. To achieve this the process must take place in difficult to control transition between metallic and reactive mode. The article presents a few methods currently used to control such a process.

Słowa kluczowe

reaktywne rozpylanie magnetron

reactive sputtering magnetron

Wydawca

Wydawnictwo SIGMA-NOT

Czasopismo

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Rocznik

2003

Tom

Vol. 44, nr 11

Strony

12--15

Opis fizyczny

Bibliogr. 12 poz., il.

Twórcy

autor

Leja E.

leja@uci.agh.edu.pl

Katedra Elektroniki, Akademia Górniczo-Hutnicza, Kraków

autor

Stec A.

Katedra Informatyki i Automatyki, Politechnika Rzeszowska

Bibliografia

1. T Rettich, P. Wiedemuth: Practical Aspect of High Power and DC Generators in Large Area Coating Systems, 44th Annual Technical Conference Proceedings, SVC 2001 , 214-217.
2. E. Leja: Otrzymywanie i właściwości elektryczne przezroczystych warstw tlenkowych typu SnO2 i In2O3, Zeszyty Naukowe AGH, Zeszyt 55, Kraków 1982.
3. H. Czternastek, A. Brudnik, M. Jachimowski, E. Kolawa: Voltage-controlled DC reactive magnetron sputtering of indium-doped zinc oxide films, J. Phys. D: Appl. Phys., 25, 1992, 865-870.
4. J. Chapin, C. R. Condon: U. S. Patent 4166784, 1979.
5. W M. Posadowski: Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, 343-344, 1999, 85-89.
6. W M. Posadowski: Niekonwencjonalne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
7. J. Dora: Zasilacz rezonansowy, Urząd Patentowy RP, Patent nr 178285, zgł. 1996.06.03.
8. W O. Sproul: High-rate reactive DC magnetron sputtering of oxide and nitride superlattice coatings, Vacuum , vol. 51, no 4, 1998, 641-646.
9. U. Heister, J. Krempet-Hesse, J. Szczyrbowski, G. Teschner, J. Bruch, G. Brauer: TwinMag II: Improving an advanced sputtering tool , Vacuum, 59, 2000, 424-430.
10. J. Szczyrbowski, G. Brauer, G. Teschner, A. Zmelty : Antireflective coatings on large scale substrates produced by reactive twin-magnetron sputtering, J. Non-Crystalline Solids, 218,1997, 25-29.
11. J. A. Thornton: Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetrons, J. Vae. Sci. Technol., 15 (2), 1978, 171-177.
12. A. Stec : Szacowanie stopnia utlenienia katody magnetronu na podstawie charakterystyki prądowo-napięciowej , Zeszyty Naukowe PW, z. 143, Warszawa 2002.

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-BPB5-0002-0044