PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Metody sterowania procesami reaktywnego jonowego rozpylania

Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Process control methods for reactive ion sputtering
Konferencja
Ogólnopolskie Seminarium "Techniki Jonowe" ( 8 ; 12-14.03.2003 ; Szklarska Poręba, Polska)
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Duża szybkość osadzania powłok jest jednym z wymogów stawianych urządzeniom do reaktywnego jonowego rozpylania. Aby to osiągnąć, proces musi odbywać się w trudnym do kontrolowania przejściu po-między trybem metalicznym a reaktywnym. W artykule przedstawiono kilka metod stosowanych obecnie do sterowania takim procesem.
EN
High rate deposition is one of requirements for reactive sputtering devices. To achieve this the process must take place in difficult to control transition between metallic and reactive mode. The article presents a few methods currently used to control such a process.
Słowa kluczowe
Rocznik
Strony
12--15
Opis fizyczny
Bibliogr. 12 poz., il.
Twórcy
autor
autor
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPB5-0002-0044
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.