Korozja miedzi w kwaśnych roztworach chlorkowych w obecności benzimidazolu lub 2-metylobenzimidazolu

• Autorzy: Scendo M.

Warianty tytułu

EN

The corrosion of copper in acidic chloride solution in the presence of benzimidazol or 2-methylbenzimidazol

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Badano wpływ pH na proces anodowego roztwarzania miedzi w kwaśnych roztworach chlorkowych w obecności benzimidazolu (BIM) lub 2-metylobenzimidazolu (MBIM), stosując technikę wirującej elektrody dyskowej (RDE). Dysk wykonany by l z elektrolitycznie czystej miedzi (99,99% Cu). Zarejestrowano anodowe krzywe woltamperometryczne dla różnych szybkości obrotów elektrody dyskowej. Stwierdzono, że wraz ze wzrostem pH roztworów następuje przesunięcie krzywych w stronę dodatnich wartości potencjalu. Obliczono wydajność inhibito-wania (IE) reakcji anodowego roztwarzania. Wartość IE jest największa w przypadku roztworów, których pH wynosiło 3,0 dla obu inhibitorów. Badano proces samorzutnego roztwarzania miedzi w roztworach o identycznym składzie, które zawierały tlen. Rejestrowano zależność zmiany masy miedzi od czasu prowadzenia eksperymentu, który trwał 192 godziny. Zarówno BIM oraz MBIM inhibitują proces samorzutnego roztwarzania miedzi. Ponadto w miarę wzrostu pH badanych roztworów szybkość korozji miedzi wyraźnie maleje, przy czym dla pH = 3,0 jest ona porównywalna dla roztworów zawierających BIM lub MBIM.

EN

The influence pH on the anodic dissolution of copper in acidic chloride solutions in presence of benzimidazol (BIM) or 2-methylbenzimidazol (MBIM) has been studied, using voltammetry on a rotating disk electrode (RDE) technique. The disk was made of copper (99.99% Cu). A series of anodic RDE voltammograms was recorded for different rotation rates of the disk electrode. It was found, that with the increasing pH, voltammograms shifted to the positive values of the potential. Efficiency of inhibiting (IE) of the anodic dissolution of copper was determined. The IE value was the biggest in case of solutions of pH = 3,0 for the both inhibitors. There was investigated process of spontaneous dissolution of copper in solutions of the some composition which contained oxygen. There was registered the dependence of copper mass on time of the experiment, which lasted for 192 hours. Both BIM and MBIM inhibited spontaneous copper dissolution. As pH rose corrosion rate decreased and for pH -3,0 was comparable to that for solutions containing BIM and MBIM.

Słowa kluczowe

PL

korozja miedzi

EN

copper corrosion

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Ochrona przed Korozją
• Rocznik: 2003
• Tom: nr 10
• Strony: 290--294
• Opis fizyczny: Bibliogr. 33 poz., il.

Twórcy

autor

Scendo M.

• Akademia Świętokrzyska, Instytut Chemii ul. Chęcińska 5 25-020 Kielce

Bibliografia

• 1. Bockris O. M.J., Rubin B.T., Despic A., Lovrecek B.: Electrochim. Acta, 1972, 17, 973.
• 2. Moreu A.: Electrochim. Acta, 1981, 26, 497.
• 3. Pearlstein A.J., Lee H.P., Nobe K.: J. Electrochem. Soc., 1985, 132, 2159.
• 4. Da Costa S.L.F.A., Agostinho S.M.L., Nobe K.: J. Electrochem. Soc., 1993, 140, 3483
• 5. Delia E., Barcia O.E., Mattos O.R., Pebere N., Tribollet B.: J. Electrochem. Soc., 1996, 143,961.
• 6. Bacarella A. L., Griess J.C.: J. Electrochem. Soc., 1973, 120, 459.
• 7. Zembura Z.: Electrochim. Acta, 1965,10,859.
• 8. Zembura Z.:Corrosion Sci., 1968, 8, 703.
• 9. Zembura Z.: J. Electroanal. Chem., 1973, 46, 243.
• 10. Zembura Z., Pr. zb.: Wodorowe i korozyjne niszczenie metali, PWN, Warszawa 1979, s. 253-276.
• 11. Itagaki M., Tagaki M., Watanabe K.: Corros. Sci., 1996, 38, 601.
• 12. Arnek R., Puigdomenech I., Valiente M.: Acta. Chem. Scand. Ser. A, 1982, 36, 15.
• 13. Brossard L.: J. Electrochem. Soc., 1983, 130, 403.
• 14. Scendo M., Małyszko J.: J.Electrochem. Soc., 2000, 147, 1758.
• 15. Qafsaoul W., Blanc Ch., Roques J., Pebere N., Srhiri A., Mijoule C., Mankowski G.: J. Appl. Electrochem, 2001, 31, 223.
• 16. Tromans D., Sun R.: J. Electrochem. Soc., 1991, 138, 3235.
• 17. Hashemi T., Hoghart C. A.: Electrochim. Acta, 1988, 33, 1123
• 18. De Costa S., Rubim J.C., Agostinho S.M.L.: J. Electroanal Chem., 1990, 295, 203.
• 19. Ferndon E.E., Walsh F.C., Camppell S.A.: J. Appl. Electrochem., 1995, 25, 574.
• 20. Walsh J.F., Dhariwal H.S.: Surf. Sci., 1998, 415, 423.
• 21. Troman D., Silva J.C.: J. Electrochem. Soc., 1995, 143, 458.
• 22. Moretti G., Quartone G., Tassan A., Zingales A.: Electrochim. Acta, 1996, 13, 1971.
• 23. Scendo M., Poddębniak D., Małyszko J.: J. Appl.. Electrochem., (w druku)
• 24. Gasparac R., Stupnisek-Lisac E.: Corrosion, 1999, 55,1031.
• 25. Gasparac R., Martin Ch.R.,Stupnisek-Lisac E., Mandic Z.: J. Electrochem. Soc., 2000, 147, 991.
• 26. Martin Ch.R., Gasparac R., Stupnisek-Lisac E.: J. Electrochem. Soc., 2000, 147, 548.
• 27. Rzepka M., Surga W.: Pollish J. Chem., 1993, 67, 2121.
• 28. Scendo M.: wyniki niepublikowane.
• 29. Małyszko J., Scendo M.: Monatsh. Chem., 1987, 118, 435.
• 30. Małyszko J., Scendo M.: J. Electronal. Chem., 1988, 250, 61.
• 31. Małyszko J., Scendo M.: J. Electroanal. Chem., 1989, 269, 113.
• 32. Burzyńska I., Maraszewska A., Zembura Z.: Polish J. Chem., 1994, 68, 783
• 33. Kolenda Z., Zembura Z., Donizak Z., Zembura M.: J. Electroanal. Chem., 1995, 382,1.