Cienkie powłoki z tetrametoksilanu (TMOS) osadzane metodą PE-CVD i ich zastosowanie

• Autorzy: Rżanek-Boroch Z. , Schmidt-Szałowski K. , Szymańska A. , Afek T.

Warianty tytułu

EN

Thin silicon oxide films deposited from tetramethoxysilane by the PE-CVD technique

• Konferencja: Kongres Technologii Chemicznej (4 ; 08-12.09.2003 ; Łódź, Polska)
• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

cienka powłoka; ditlenek krzemu; PECVD

EN

silica; thin film; PECVD

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2003
• Tom: T. 82, nr 8-9
• Strony: 956--958
• Opis fizyczny: Bibliogr., 3 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Rżanek-Boroch Z.

• Politechnika Warszawska, Wydział Chemiczny, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa

autor

Schmidt-Szałowski K.

• Politechnika Warszawska

autor

Szymańska A.

• Politechnika Warszawska

autor

Afek T.

• Politechnika Warszawska

Bibliografia

• 1. K. Schmidt-Szałowski, W. Fabianowski, Z. Rżanek-Boroch, J. Sentek, M. Gutkowski, Inż. Mat. 1999, 10, 40.
• 2. W. Fabianowski, R. Jachowicz, Z. Ażgin, J. Sochoń, Z. Rżanek-Boroch, J. Sentek, K. Schmidt-Szałowski, Proc. 14th International Symposium on Plasma Chemistry, Praha, 2–6 sierpnia 1999, 1375.
• 3. Z. Rżanek-Boroch, A. Szymańska, T. Afek, Acta Agrophysica 2002, 80, 267.