Tytuł artykułu
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Thin silicon oxide films deposited from tetramethoxysilane by the PE-CVD technique
Konferencja
Kongres Technologii Chemicznej (4 ; 08-12.09.2003 ; Łódź, Polska)
Języki publikacji
Abstrakty
Słowa kluczowe
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
956--958
Opis fizyczny
Bibliogr., 3 poz., rys., wykr.
Twórcy
autor
- Politechnika Warszawska, Wydział Chemiczny, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa
autor
- Politechnika Warszawska
autor
- Politechnika Warszawska
autor
- Politechnika Warszawska
Bibliografia
- 1. K. Schmidt-Szałowski, W. Fabianowski, Z. Rżanek-Boroch, J. Sentek, M. Gutkowski, Inż. Mat. 1999, 10, 40.
- 2. W. Fabianowski, R. Jachowicz, Z. Ażgin, J. Sochoń, Z. Rżanek-Boroch, J. Sentek, K. Schmidt-Szałowski, Proc. 14th International Symposium on Plasma Chemistry, Praha, 2–6 sierpnia 1999, 1375.
- 3. Z. Rżanek-Boroch, A. Szymańska, T. Afek, Acta Agrophysica 2002, 80, 267.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPB1-0029-0042