Cienkie warstwy węglikoazotku krzemu wytwarzane z prekursora krzemoorganicznego w selektywnym procesie plazmowym CVD

• Autorzy: Błaszczyk I. , Wróbel A.M.

Warianty tytułu

EN

The silicon carbonitride films produced from organosilicon precursor in remote plasma CVD

• Konferencja: II Krajowa Konferencja "Nowe Materiały - Nowe Technologie w Przemyśle Okrętowym i Maszynowym", Międzyzdroje 2003
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Amorficzne uwodornione cienkie warstwy węglikoazotku krzemu były wytwarzane z tetrametylodisilazanu w selektywnym procesie plazmowym CVD, w którym do generowania plazmy stosowano mieszaninę wodór-azot. Przedstawiono rezultaty badań nad wpływem stężenia azotu w zasilającej plazmę mieszaninie wodór-azot na strukturę chemiczną, morfologię powierzchni i właściwości warstwy (gęstość, twardość, moduł sprężystości, współczynnik tarcia).

EN

Amorphous hydrogenated silicon carbonitride thin films were produced from tetramethyldisilazane by remote plasma chemical vapor deposition using the hydrogen-nitrogen mixture for plasma generation. The results of studies of the effect of the nitrogen content in the plasma feeding hydrogen-nitrogen mixture on chemical structure, surface morphology, and properties (density, hardness, elastic modulus, friction coefficient) of resulting film is reported.

Słowa kluczowe

PL

cienka warstwa; warstwa węglikoazotku krzemu; prekursor krzemoorganiczny; selektywny proces plazmowy CVD; wodór; azot; mieszanina; struktura chemiczna; morfologia powierzchni; właściwości warstwy

EN

thin film; silicon carbonitride film; organosilicon precursor; remote plasma CVD; hydrogen; nitrogen; mixture; chemical structure; surface morphology; properties of film

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2003
• Tom: R. XXIV, nr 6
• Strony: 431--434
• Opis fizyczny: Bibliogr. 17 poz., rys.

Twórcy

autor

Błaszczyk I.

• Polska Akademia Nauk, Centrum Badań Molekularnych i Makromolekularnych

autor

Wróbel A.M.

• Polska Akademia Nauk, Centrum Badań Molekularnych i Makromolekularnych

Bibliografia

• 1. Riedel R., Kleebe H., Schonfelder H., Aldinger F.: Naturę, 1995, 374,526.
• 2. Badzian A., Badzian T., Drawl W. D., Roy R.: Diamond Relat. Mater., 1998,7,1519.
• 3. Besling W. F. A., Goossens A., Meester B., Schoonman J.: J. Appl. Phys.,544,83,1998.
• 4. Korevaar G., Besling W., Goossens A., Schoonman J.:, J. Phys. IV, 1999,9,763.
• 5. Wróbel A. M., Wertheimer M. R., w: Plasma Deposition, Treatment, and Etching of Polymers, red. d'Agostino R., Academic Press, Boston MA 1990, rozdz. 3.
• 6. Kim M. T., Lee J.: Thin Solid Films, 1997,303,173.
• 7. Kuo D. H., Yang D. G.: Thin Solid Films, 2000,374,92.
• 8. Marx G., Komer K. U., Hager P.: Steel Res., 2001,72,518.
• 9. Fainer N. I., Rumyantsey Y. M., Kosinova M. L., Yurjev G. S., Maximoyski E. Kuznetsov A., F. A.: Appl. Surf. Sci., 1997, 114, 614
• 10. Fainer N. I., Kosinova M. L., Rumyantsev Y. M., Kuznetsov F. A. J. Phys. IV, 1999,9,769.
• 11. Kosinova M. L., Fainer N. I., Rumyantsev Y. M., Terauchi M., Ihibata K., Satoh F., Kuznetsov F. A.: J. Phys. IV, 2001,11,987.
• 12. Aoki T., Ogishima T., Wróbel A. M., Nakanishi Y., Hatanaka Y.: Vacuum, 1998,51,747.
• 13. Wróbel A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska A., Stasiak M., Klemberg-Sapieha J. E., Bieliński D. M., Aoki T., Hatanaka Y. J. łVide Bandgap Mater., 2000,8,3.
• 14. Bieliński D., Wróbel A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska A.: Tribol. Lett.,2002,13,71.
• 15. Wróbel A. M., Błaszczyk I., Walkiewicz-Pietrzykowska A., Tracz A., Klemberg-Sapieha J. E., Aoki T., Hatanaka Y.: J. Mater. Chem., 2003,13,731.
• 16. Luft W., Tsuo W. Y.: Hydrogenated Amorphous Silicon Alloy Deposition Process; Marcel Dekker, New York 1993, rozdz. 9.
• 17. Oliver W. C, Pharr G. M.: J. Mater. Res., 1992,7,1564.