Warstwy tlenku glinu na węglikach spiekanych otrzymywane metodą MOCVD

Sawka, A.; Kwatera, A.; Juda, W.; Rakowski, W.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Warstwy tlenku glinu na węglikach spiekanych otrzymywane metodą MOCVD

Autorzy

Sawka A. , Kwatera A. , Juda W. , Rakowski W.

Identyfikatory

Warianty tytułu

Alumina layers synthesized by the MOCVD method on cemented carbides

Konferencja

V Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka powierzchniowa" '2002, Częstochowa Kule, 18-20 wrzesień 2002

Języki publikacji

Abstrakty

Warstwy Al2O3 syntezowano metodą MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) z użyciem acetyloacetonianu glinu, czystego argonu (99,999% obj.) oraz powietrza. Warstwy te osadzano bezpośrednio na powierzchniach węglików spiekanych bez pośredniej warstwy TiC w zakresie temperatur 800-1000 stopni Celsjusza. Czas ich syntezy wynosił 15-120 min. Niektóre z otrzymanych warstw w 800 stopniach Celsjusza dodatkowo wygrzewano w temperaturze 850-1000 stopni Celsjusza. Warstwy poddano badaniom na mikroskopie skaningowym współpracującym z mikroanalizatorem dyspersji energii promieniowania rentgenowskiego (EDS). Wykonano również analizę rentgenowską, a także przeprowadzono pomiary mikrotwardości oraz badania na przyczepność warstw do podłoża.

Alumina layers were synthesized by the MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) method using aluminium acetylacetonate (Al(O2C5H7)3), pure argon (99,999% vol.) and air. Layers were deposited on cemented carbides with no intermediate layer of TiC in the temperature range of 800-1000 degrees centigrade. The time of their synthesis was 15-120 min. Some layers synthesized at 800 degrees centigrade were additionally annealed at 850-1000 degrees centigrade. The obtained layers were examined by scanning electron microscopy with EDS attachement. The phase composition of the layers was also investigated by X-ray analysis. The microhardness of the coats and their adhesion to the substrate were also measured.

Słowa kluczowe

warstwy tlenku glinu węgliki spiekane metoda MOCVD synteza mikroskop skaningowy skład fazowy mikrotwardość adhezja

alumina layers cemented carbides MOCVD method metalorganic chemical vapour deposition synthesis scanning electron microscopy phase composition microhardness adhesion

Wydawca

Wydawnictwo SIGMA-NOT

Czasopismo

Inżynieria Materiałowa

Rocznik

2002

Tom

R. XXIII, nr 5

Strony

387--389

Opis fizyczny

Bibliogr. 6 poz.

Twórcy

autor

Sawka A.

autor

Kwatera A.

autor

Juda W.

autor

Rakowski W.

Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Kraków

Bibliografia

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-BOS5-0005-0018