The hardness of CrN, NbN, TiN layers deposited on monocrystalline Si wafers.

• Autorzy: Wolkenberg A. , Wrzesińska H. , Bochenek A. , Tokarz A. , Nitkiewicz Z.

Warianty tytułu

PL

Twardość warstw CrN, NbN, TiN osadzanych na płytkach Si o orientacji (100).

• Konferencja: XVIth Physical Metallurgy and Materials Science Conference on Advanced Materials and Technologies AMT'2001, Gdańsk-Jurata, 16-20 September 2001
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

We present the results of the technological preparation of thin films of nitrides, which allow obtain higher surface hardness and very important magneto-resistance properties, when composed in superlattices. The enhanced hardness of such multilayers was 82 GPa and MR more as 80%.

PL

Przedstawiono wyniki technologiczne i właściwości cienkich warstw azotków chromu, tytanu i niobu. Warstwy były otrzymywane przez reaktywne rozpylanie magnetronowe. Warstwy osadzane na podłożu z monokrystalicznego krzemu wykazywały twardość kompozytu w postaci supersieci równą ~ 82 GPa a magnetorezystancję - 80% lub więcej.

Słowa kluczowe

EN

layer; thin film; nitride; hardness; magneto-resistance properties; superlattice; multilayers

PL

warstwa; cienka warstwa; azotek; twardość; magnetorezystancja; supersieć; warstwa wielokrotna

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2001
• Tom: R. XXII, nr 5
• Strony: 957--960
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz. tab., rys.

Twórcy

autor

Wolkenberg A.

• Institute of Materials Engineering, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Technical University of Częstochowa

autor

Wrzesińska H.

• Institute of Electron Technology, Warsaw

autor

Bochenek A.

• Institute of Materials Engineering, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Technical University of Częstochowa

autor

Tokarz A.

• Institute of Materials Engineering, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Technical University of Częstochowa

autor

Nitkiewicz Z.

• Institute of Materials Engineering, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Technical University of Częstochowa

• Technical University of Częstochowa, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Institute of Materials Engineering

Bibliografia

• [1] H. Haberland, Physics World, 13,(12) 27 (2000)
• [2] D.Tabor, Rev. Phys. Technol., 1, 145 (1970)
• [3] R.Smith, G. Sandland, J.Iron. Steel Inst., 1, 285 (1925)
• [4] F. Knoop, C.G. Peters, W.R. Emerson, J. Res. Nat. Bur. Stand., 23, 39 (1939)
• [5] J.S. Koehler, Phys. Rev., B2, 547 (1970)
• [6] S.L. Lehoczky, J. Appl. Phys., 49, 876 (1978)
• [7] W.M.C. Young, T. Tsalakos, J. Appl. Phys., 48, 876 (1977)
• [8] E. Warren, J. Pickett, Phys. F: Met. Phys., 12, 2195 (1982)
• [9] G.E. Henein, J.E. Hilliard, J. Appl. Phys., 54, 728 (1983)
• [10] T. Tsalakos, J.E. Hilliard, J. Appl. Phys., 54, 734 (1983)
• [11] R.C. Cammarata, K. Sieradzki, Phys. Rev. Lett., 62, 2005 (1989)
• [12] U. Helmerrsson, S. Todorova, S.A. Barnett, J. Appl. Phys., 62,481 (1987)
• [13] Xu Junhua, Li Geyang, Gu Mingyuuuan, Thin Solid Films, 370,45 (2000)
• [14] B. Jönssen, S. Hogmark, Thin Solid Films, 114, 257 (1984)
• [15] E. Vancouille, J.P. Celis, J.R. Roos, Thin Solid Films, 224, 168 (1993)
• [16] J. Takadoum, H. Houmid Bennani, Surface and Coatings Technology: 272 (1997)