TiO2 agglomeration effect in the electrodeposition process of Ni-P-TiO2 amorphous layers

• Autorzy: Łosiewicz B. , Budniok A.

Warianty tytułu

PL

Efekt aglomeracji TiO2 w procesie elektroosadzania amorficznych warstw Ni-P-TiO2

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Amorphous Ni-P-TiO2 composite layers were prepared by simultaneous electrodeposition of nickel and titanium dioxide (anatase) on a copper substrate from a solution in which TiO2 particles were suspended by stirring. The electrodeposition was carried out under galvanostatic conditions at a temperature of 293 K and 333 K. For comparison, Ni-P layers were also obtained under the same conditions. X-ray diffractometer, scanning electron microscope, metallographic microscope with computer system for morphometric analysis and atomic absorption spectroscope were used for physical and chemical characterization of the layers. It was found that TiO2 agglomeration effect in the Ni-P-TiO2 composite coatings became more significant by increasing the electrodeposition temperature.

PL

Amorficzne warstwy kompozytowe Ni-P-TiO2 były otrzymywane przez jednoczesne elektroosadzanie niklu i dwutlenku tytanu (anataz) na podłożu miedziowym z roztworu, w którym cząstki TiO2 utrzymywano w zawiesinie, stosując ciągłe mieszanie. Elektroosadzanie prowadzono w warunkach galwanostatycznych w temperaturze 293 K i 333 K. W celach porównawczych otrzymano w tych samych warunkach warstwy Ni-P. Do fizycznej i chemicznej charakterystyki warstw użyto dyfraktometr rentgenowski, skaningowy mikroskop elektronowy i mikroskop metalograficzny z komputerowym programem do analizy morfometrycznej powierzchni warstw oraz spektrometr atomowej absorpcji. Wykazano, że efekt aglomeracji TiO2 w warstwach kompozytowych Ni-P-TiO2 nasila się wraz ze wzrostem temperatury elektroosadzania.

Słowa kluczowe

EN

agglomeration effect; titanium dioxide; nickel; electrodeposition; composite layer; galvanostatic conditions

PL

efekt aglomeracji; dwutlenek tytanu; nikiel; elektroosadzanie; warstwa kompozytowa; warunki galwanostatyczne

• Wydawca: Wydawnictwo Uniwersytetu Śląskiego
• Czasopismo: Archiwum Nauki o Materiałach
• Rocznik: 2000
• Tom: T. 21, nr 3-4
• Strony: 133--142
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., rys.

Twórcy

autor

Łosiewicz B.

• Instytut Fizyki i Chemii Metali, Uniwersytet Śląski, ul. Bankowa 12, 400-007 Katowice

autor

Budniok A.

• Instytut Fizyki i Chemii Metali, Uniwersytet Śląski, ul. Bankowa 12, 400-007 Katowice

Bibliografia

• [1] J. Haenen, W. Visscher, E. Barendrecht, J. Appl. Electrochem, 15, 29 (1985).
• [2] M. Keddam, S. Senyarich, H. Takenouti, P. Bernard, J. Appl. Electrochem., 24,1037 (1994).
• [3] J. O'M. Bockris, S. U. M. Khan, Surface Electrochemistry, Plenum Press, New York,1993.
• [4] T. Fujii, T. Kodama, H. Baba, Trans. Nat. Res. Inst. Metals, 15, 1(1983).
• [5] J. Niedbała, A. Budniok, J. Surówka, D. Gierlotka, Thin Solid Films, 287, 164 (1996).
• [6] G. N. K. Ramesh Bapu, S. Mohan, Plat. Surf. Finish, 4, 86 (1995).
• [7] N. Guglielmi, J. Electrochem. Soc., 119, 1009 (1972).
• [8] D. Gierlotka, E. Rówiński, A. Budniok, E. Łągiewka, J. Appl. Electrochem., 27, 1 (1997).
• [9] A. Czarski, J. Ryś, The stereological Methods in Material Science, PAN, Kraków 1988.