Preparation of highly transparent and uniform in thickness CVD layers of Si3N4 on dielectric substrates.

• Autorzy: Kwatera A. , Sawka A.

Warianty tytułu

PL

Przygotowanie metodą CVD warstw Si3N4 o znacznej przeźroczystości i równomiernej grubości na podłożach dielektryków.

• Konferencja: XVIth Physical Metallurgy and Materials Science Conference on Advanced Materials and Technologies AMT'2001, Gdańsk-Jurata, 16-20 September, 2001
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Highly transparent and uniform in thickness Si3N4 layers were synthesized on the inner surfaces of the quartz glass tubes by the CVD method using SiH4 (3% by volume) with N2 and pure ammonia (NH3) gas mixtures. Argon (Ar) was used as a carrier gas. These layers were deposited in the temperature range of 850-1000 degrees centigrade. The value of Grx/square Rex criterion was below 0,15. Experiments in CsClvap at 1100 degrees centigrade for 2 h showed that continuous Si3N4 layers protect quartz glass substrate against caesium diffusion into its surface.

PL

Mało zróżnicowane w grubości oraz charakteryzujące się wysoką przeświecalnością warstwy Si3N4 syntezowano na szkle kwarcowym metodą CVD. Jako reagenty stosowano SiH4 z N2 oraz czysty NH3, zaś jako gazu nośnego użyto argonu (Ar). Warstwy te osadzano w temperaturach 850-1000 stopni Celsjusza. Wartość rozwiniętego kryterium Grx/Rex do kwadratu wynosiła mniej niż 0,15. Otrzymane warstwy testowano w parach CsCl2 w temperaturze 1100 stopni Celsjusza przez 2 h. Test ten wykazał, że ciągłe warstwy Si3N4 chronią powierzchnię szkła kwarcowego przez dyfuzję do niej cezu.

Słowa kluczowe

EN

CVD; layer; quartz glass tubes; transparency; carrier gas; argon; continuous layers; protection-against diffusion

PL

CVD; warstwa; szkło kwarcowe; przeświecalność; gaz nośny; argon; warstwy ciągłe; ochrona przed dyfuzją

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2001
• Tom: R. XXII, nr 4
• Strony: 521--523
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Kwatera A.

• University of Mining and Metallurgy, Faculty of Materials Science and Ceramics, Department of Special Ceramics

autor

Sawka A.

• University of Mining and Metallurgy, Faculty of Materials Science and Ceramics, Department of Special Ceramics

• University of Mining and Metallurgy, Faculty of Materials Science and Ceramics, Department of Special Ceramics, Poland

Bibliografia

• [1] Kwatera A.: Uniform thin chemically vapour deposited layers of high density on the inner surfaces of tube-shaped substrates. Thin Solid Films 204(1991)313-339
• [2] Kwatera A., Sawka A.: Preparation of amorphous composites of silicon nitride and carbon layers on silica glass by chemical vapour deposition method. Journal of Non-Crystalline Solids 265 (2000) 120-124
• [3] Kwatera A.; Thin CVD layers of carbon-doped silicon nitride on quartz glass. Ceramics International 15 (1989) 65-72
• [4] Beams J. W., Breazeale J. B., Bort W. L: Mechanical strength of thin films of metals. The Physical Reviev 100 (1955) 1657-1661
• [5] Pampuch R., Słomka W., Chłopek J.: Determination of the influence of matrix ceramics fibre reaction on strength of composites. Ceramics International 12 (1986) 9-18
• [6] Kwatera A.: Models of the processes at the substrate surface in the CVD method. Ceramics International 17 (1991) 11-23