Cienkie warstwy germanowęglowe otrzymywane w wyładowaniu jarzeniowym - struktura chemiczna.

• Autorzy: Szymanowski H.

Warianty tytułu

EN

Thin organogermanium films produced with use of glow discharge and their chemical structure.

• Konferencja: II Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Nowe technologie w inżynierii powierzchni", Łódź - Spała, 12-14 października 2000
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Badając procesy nakładania w nowym trójelektrodowym reaktorze plazmowym stwierdzono bardzo dużą zależność właściwości otrzymanej warstwy od jednego z parametrów prowadzenia procesu. Wykorzystując różne techniki badawcze poszukiwano odpowiedzi na pytanie: jakie zmiany budowy chemicznej produktu są odpowiedzialne za tak drastyczne zmiany we właściwościach warstwy a-GexCy:H. Dokonano także obliczeń stopnia upakowania warstwy. Na tej podstawie stwierdzono, że zgodnie z teorią stanu amorficznego izolatora, przejście do struktury amorficznego półprzewodnika następuje wówczas, gdy stopień uporządkowania osiągnie odpowiednią wartość krytyczną. Taki typ zmiany właściwości elektronowych nosi nazwę przejścia o charakterze perkolacyjnym.

EN

The new type of reactor for plasma deposition activated by audio frequency electric field was tested for deposition of amorphous hydrogenated films (a-GexCy:H). It was found that small changes of a coupling capacity in the system can cause a step change in the electronic structure of deposited films. Such a change, however, was not manifested by the molecular structure and only monotonic changes of Ge content and cross-linking were observed. The step in the electronic structure was attributed to the amorphous semiconductor-amorphous dielectric transition.

Słowa kluczowe

PL

cienka warstwa; warstwa germanowęglowa; wyładowanie jarzeniowe; struktura chemiczna; właściwości elektronowe

EN

thin film; organogermanium film; glow discharge; chemical structure; electronic properties

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2000
• Tom: R. XXI, nr 6
• Strony: 457--459
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., rys.

Twórcy

autor

Szymanowski H.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Zakład Materiałów Cienkowarstwowych, Politechnika Łódzka

• Politechnika Łódzka

Bibliografia

• [1] J. Tyczkowski, P. Kazimierski, W. Fallmann, F. Olcaytug, Patent 169688 B1 (PI) (1996).
• [2] H. Szymanowski, Praca doktorska CBMiM PAN Łódź (1997)
• [3] J. Tyczkowski, P. Kazimierski, H. Szymanowski, Thin Solids Films 241 183(1993).
• [4] H. Szymanowski, M. Gazicki, J. Tyczkowski, F. Olcaytug, Surf. Coat. Technol. 74 183 (1995).