PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Cienkie warstwy germanowo-węglowe

Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Thin carbon-germanium films
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W ostatnich latach wzrasta zainteresowanie cienkimi warstwami zawierającymi atomy germanu. Cenne właściwości, jak i łatwość plazmowego procesu nakładania powodują gwałtowny rozwój badań tych materiałów. Prezentowana praca zawiera skrót wyników badań prowadzonych przez naszą grupę w ciągu ostatnich kilku lat. Badania te prowadzone były w dwóch kierunkach: 1 - badania mechanizmu nakładania, wyjaśnienia reakcji chemicznych zachodzących w wyładowaniu, powiązaniu mechanizmu procesu z warunkami jego prowadzenia; 2 - badania struktury cienkich warstw, wyjaśnienie ich budowy chemicznej w zależności od warunków powstawania. Zastosowano nowoczesne techniki badawcze. Spektrometria masowa i emisyjna spektroskopia optyczna jako jedne z nielicznych technik umożliwiły prowadzenie badań w trakcie procesu nakładania. Badania FTIR oraz rezonansu magnetycznego ciała stałego C13 pozwoliły na zbadanie struktury chemicznej otrzymanych warstw.
EN
Optical emission spectroscopy (OES) and quadrupole mass spectrometry (QMS) have been applied to the characterization of RF plasma of organogermanium used for the deposition of a-GexCy:H films. QMS analysis show that under low power input condition, the gas phase consists primarily of monomer molecules and their largest fragments. In contrast, at high power input tetraethylgermanium undergoes nearly complete fragmentation forming atomic germanium, atomic and molecular hydrogen, and a number of hydrocarbon species. A dramatic increase of molecular hydrogen concentration with the increasing RF power is confirmed by OES actinometric measurements. Fourier transform infrared spectroscopy of a series carbon-germanium films are presented. It is shows that IR absorption of the films varies dramatically depending on the RF power. Various C-H bands as well as strong Ge-O absorption are characteristic for samples produced at low power. Films deposited at hogh RF power conditions are characterized by a lack of Ge-O signals, considerable Ge-H absorption and substantial broadening of all bands.
Rocznik
Strony
127--129
Opis fizyczny
Bibliogr. 11 poz., tab., rys.
Twórcy
  • Instytut Inżynierii Materiałowej i Technik Bezwiórowych Politechniki Łódzkiej
autor
  • Instytut Inżynierii Materiałowej i Technik Bezwiórowych Politechniki Łódzkiej
  • Politechnika Łódzka, Instytut Inżynierii Materiałowej i Technik Bezwiórowych
Bibliografia
  • [1] Szymanowski H., Gazicki M., Tyczkowski J., Schałko L., Olcayrug F.: Proc. 11th Inter. Symp. ,,Plasma Chemistry". Loughborough Univ. 1993. Ed. J. Harry. 1540. 1993
  • [2] Gazicki M., Szymanowski H., Schałko J., Malinowsky L.: Thin Solid Films 230. 81. 1993
  • [3] Gazicki M., Tyczkowski J., Szymanowski H., Potrzebowski M.J., Błasińska A., Fallmann W.: J. Chern. Vap. Dep . 2(4). 269- 281. 1994
  • [4] Gazicki M., Szymanowski H., Tyczkowski J., Malinowsky L., Schalko J., Fallmann W.: Th in Solid Films. 256. 31 1995
  • [5] Gazicki M .. Potrzebowski M.J., Tyczkowski J., Schalko J.: Thin Solid Films. 258, 10, 1995
  • [6] Szmanowski H., Gazicki M., Tyczkowski J., Olcaytug F.: Surf & Coat. Technol., 74, 183, 1995
  • [7] Tyczkowski J., Gazicki M., Szymanowski H., Pietrzyk B.: Tokyo Capter of IEEE Nuclear and Plasma Sci. Soc., EP-95-31-46, 85, 1995
  • [8] Gazicki M., Szymanowski H., Tyczkowski J., Schalko J., Olcaytug F.: J. Vac. Sci. Technol. A, 14(5), 2835. 1996
  • [9] Gazicki M., Ledzion E., Mazurczyk R., Pawłowski S.: Thin Solid Films. 322. 123, 1998
  • [10] Gazicki M.: Chaos. Solitons and Fractals, 10( 12). 1983. 1999
  • [11] Gazicki M., Janowska G.: Thin Solid Films 352. 6. 1999
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BOS3-0002-0012
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.