Wstępne badania nad syntezą czystych warstw alfa-Al2O3 metodą CVD na spiekanym tlenku glinu.

• Autorzy: Kwatera A. , Sawka A. , Wójcik M. , Tomaszewski W.

Warianty tytułu

EN

Initial investigations on synthesis of pure alpha-Al2O3 layers by CVD method on sintered alumina.

• Konferencja: IV Ogólnopolska Konferencja Naukowa 'Obróbka powierzchniowa', 5-8 października 1999 r., Kule k/Częstochowy
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Celem niniejszej pracy było sprawdzenie czy możliwe jest otrzymanie czystych i gęstych warstw z Al2O3 metodą CVD na płytkach wieloostrzowych wykonanych ze spiekanego tlenku glinu metodą CVD jeżeli jako podstawowy reagent zastosuje się acetyloacetonian glinu (Al(O2C5H7)3). W pracy przedstawiono schemat użytej aparatury. Przeprowadzone badania wskazują, że wpływ podłoża na mikrostrukturę syntezowanej warstwy jest istotny. Warstwa z połyskiem jest gładka i bardziej zwarta niż warstwa matowa. Powstaje ona na podłożu drobnoziarnistym i o małej porowatości. Część produktów pirolizy acetyloacetonianu glinu osadzać się może w porach podłoża. Łączna grubość zmodyfikowanej w ten sposób warstwy wierzchniej podłoża i osadzonej warstwy (o dużej gęstości) wahała się w granicach od 20 do 40 mikrometrów. Tak osadzane warstwy wykazują bardzo dobrą adhezję do podłoża.

EN

The aim of investigations was to evaluate if it is possible to obtain the pure and well adherent alpha-Al2O3 layers by CVD methods on the multiedges plates made of sintered alumina when the aluminium acetyloacetonate Al(O2C5H7)3 will be used as a base reagent. The schema of apparatus was shown. Investigations show that the influence of the substrate on the microstructure of the synthesized layers is essential. The shiny layer is smooth and more adherent than the mat one. It is formed on the fine grain substrate with low porosity. Some products of aluminium acetyloacetonate pyrolysis can be synthesized in pores of the substrate. All together, the thickness of such a modified upper layer of the substrate and synthesized layer with high density was ranged from 20 to 40 micrometers. Such synthesized layers showed very good adhesion to the substrate.

Słowa kluczowe

PL

synteza; warstwa ochronna; CVD; spiekany tlenek glinu; acetyloacetonian glinu; płytka wieloostrzowa; warstwa syntezowana; adhezja; mikrostruktura

EN

synthesis; protective layer; CVD; sintered alumina; aluminium acetyloacetonate; multiedge plate; synthesized layer; adhesion; microstructure

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 1999
• Tom: R. XX, nr 5
• Strony: 304--307
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Kwatera A.

• Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Akademia Górniczo-Hutnicza

autor

Sawka A.

• Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Akademia Górniczo-Hutnicza

autor

Wójcik M.

• Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Akademia Górniczo-Hutnicza

autor

Tomaszewski W.

• Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Akademia Górniczo-Hutnicza

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej

Bibliografia

• [1] Kwatera A., Sawka A.: Narzędzia skrawające z ceramicznymi warstwami ochronnymi, Mat. z III Ogólnopolskiej Konf. Naukowej pt. " Obróbka Powierzchniowa" zorganizowanej przez Instytut Inżynierii Materiałowej Politechniki Częstochowskiej, Komitet Budowy Maszyn PAN, Zespół Inżynierii Powierzchni Komitet Nauki o Materiałach PAN, Kule k/Częstochowy 9-12.10.1996, str. 414
• [2] Sawka A.: Synteza warstw Al2O3 metodą CVD z acetyloacetonianu glinu na płytkach wieloostrzowych z węglików spiekanych, Praca doktorska, WIMiC AGH, Kraków 1998
• [3] Kwatera A., Sawka A.: Synthcsis of pure a-Al2O3, layers on cemented carbide tools from aluminium acetyloacetonate by CVD method, Proc. of "7 Inter. Scient. Conf.- Achievements in Mechanical and Materials Engineering - AMME'98", Gliwice-Zakopane 29.11-2. 12. 1998, str. 309
• [4] Kwatera A.: Carbon-doped a-Al2O3 films synthesized on cemented carbide tools by the Metal Organie LPCVD technique, Thin Solid Films, 200 (1991) 19
• [5] Hiskes R., DiCarolis S.A., Young J.L., Laderman S.S., Jacowitz R.D. and Taber R.C., Single source metaloorganic chemical vapour deposition of low microwave surface resistance YBa2Cu3O7, Appl. Phys. Lett., 59 (5), 29 July (1991) 606
• [6] Burakowski T., Wierzchoń T.: Inżynieria powierzchni metali, WNT Warszawa 1995
• [7] Kwatera A., Sawka A.: Wpływ sposobu ułożenia płaskiego podłoża w poziomym reaktorze CVD na rozkład grubości syntezowanej warstwy, Mat. z Konf. Naukowo-Technicznej n.t. "Nowe Materiały - Nowe Technologie Materiałowe w Przemyśle Okrętowym i Maszynowym" - "INŻYNIERIA MATERIAŁOWA", Szczecin-Świnoujście 10-13.09.1998, str. 335
• [8] Benjamin P., Weaver C.: Measurement of adhesion of thin films, Proc. R. Soc., London, Ser. A, 254 (1960) 163
• [9] Kwatera A., Sawka A.: Synteza przeźroczystych warstw Al2O3 z Al(O2 C5H7) metodą CVD na szkle kwarcowym, Mat. z Konf. Naukowo-Technicznej n.t. "Nowe Materiały - Nowe Technologie Materiałowe w Przemyśle Okrętowym i Maszynowym" - "INŻYNIERIA MATERIAŁOWA", Szczecin-Swinoujście 10- 13.09.1998, str. 351,