PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Wykorzystanie reaktywnego trawienia jonowego płytek szafirowych dla potrzeb biologii molekularnej.

Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Use of reactive ion etching of saphire substrates in the molecular biology.
Konferencja
II Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Nowe Technologie w Inżynierii Powierzchni", Łódź-Spała, 12-14 października 2000
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W pracy przedstawiono możliwości reaktywnego trawienia jonowego podłóż szafirowych w celu uzyskania struktur powierzchniowych przy użyciu maski z fotorezystu. Wyniki uzyskane w procesie reaktywnego trawienia jonowego wskazują, że dla głębokości ok. 10 mikrometrów można uzyskać bardzo wysoką anizotropię procesu.
EN
A potential of reactive ion etching of saphire substrates in order to generate pattern using a photoresist mask is presented. The results show that it is possible to etch channels as deep on 10 micrometers with a high degree of anisotropy.
Rocznik
Strony
411--413
Opis fizyczny
Bibliogr. 12 poz., tab., rys.
Twórcy
autor
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
  • Imperial College – Londyn, Wielka Brytania
autor
  • Imperial College – Londyn, Wielka Brytania
  • Politechnika Łódzka, Wydział Mechaniczny
Bibliografia
  • [1] J.D. Watson, F.H.C. Crick, Molecular strukture of nucleic cids. Nature 1953; 171:737
  • [2] R.Saiki, et al, Enzymatic amplification of beta-globin genomic seqences and restriction enzyme site analysis for diagnosis of sicie cell anaemia. Science ,1985.230: s. 1350 1354.
  • [3] KB Mullis, F.Ferre, R.A. Gibbs The Polymerase Chain Reaction . 1994, Boston : Birkhauser.
  • [4] S.B.Primrose, Zasady analizy genomu. Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, Warszawa 1999, s. 129-133
  • [5] http://www.oml.gov/TechResources/Human_Genoine/
  • [6] Beck R.B.: Technologia krzemowa. PWN 1991.
  • [7] Oczoś K.: Kształtowanie materiałów skoncentrowanymi strumieniami energii. Rzeszów 1988.
  • [8] Rangelow I.W., Hudek P., Shi F.: Bulk micromachining of Si by Lithography and Reactive Ion Etching (LIRE), Vacum 46 Nr 12, (1995).
  • [9] Dumania P., Grabiec P., Domański K., Hudek H. I Rangelow I.W.: Advanced Etching Techniques for Microfabication – Workshop Microtechnology and Thermal Problems in Electronics. Zakopane 21-27 wrzesień 1998.
  • [10] „μ-DiaGene: nucleic acid micro-sequencing in diamond” EU Proposal PL 930 782 1998
  • [11] Mitura, K. George, D. Colling, J. Hassard “Data acquisition software, and theapplication of computing to DNA sequencing”; Proc. of XI Symp. on Computer Sciance, Zakopane, 23rd-26th September 1998.
  • [12] Rapiejko, A. Mitura, M. Cłapa, V. Sonnier, “Reaktywne Trawienie Jonowe Płytek Szafirowych”, EM 2000 Bydgoszcz 24-26 maja 2000
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BOS1-0011-0020
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.