Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Use of reactive ion etching of saphire substrates in the molecular biology.
Konferencja
II Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Nowe Technologie w Inżynierii Powierzchni", Łódź-Spała, 12-14 października 2000
Języki publikacji
Abstrakty
W pracy przedstawiono możliwości reaktywnego trawienia jonowego podłóż szafirowych w celu uzyskania struktur powierzchniowych przy użyciu maski z fotorezystu. Wyniki uzyskane w procesie reaktywnego trawienia jonowego wskazują, że dla głębokości ok. 10 mikrometrów można uzyskać bardzo wysoką anizotropię procesu.
A potential of reactive ion etching of saphire substrates in order to generate pattern using a photoresist mask is presented. The results show that it is possible to etch channels as deep on 10 micrometers with a high degree of anisotropy.
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
411--413
Opis fizyczny
Bibliogr. 12 poz., tab., rys.
Twórcy
autor
- Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
- Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
- Instytut Inżynierii Materiałowej, Wydział Mechaniczny, Politechnika Łódzka
autor
- Imperial College – Londyn, Wielka Brytania
autor
- Imperial College – Londyn, Wielka Brytania
- Politechnika Łódzka, Wydział Mechaniczny
Bibliografia
- [1] J.D. Watson, F.H.C. Crick, Molecular strukture of nucleic cids. Nature 1953; 171:737
- [2] R.Saiki, et al, Enzymatic amplification of beta-globin genomic seqences and restriction enzyme site analysis for diagnosis of sicie cell anaemia. Science ,1985.230: s. 1350 1354.
- [3] KB Mullis, F.Ferre, R.A. Gibbs The Polymerase Chain Reaction . 1994, Boston : Birkhauser.
- [4] S.B.Primrose, Zasady analizy genomu. Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, Warszawa 1999, s. 129-133
- [5] http://www.oml.gov/TechResources/Human_Genoine/
- [6] Beck R.B.: Technologia krzemowa. PWN 1991.
- [7] Oczoś K.: Kształtowanie materiałów skoncentrowanymi strumieniami energii. Rzeszów 1988.
- [8] Rangelow I.W., Hudek P., Shi F.: Bulk micromachining of Si by Lithography and Reactive Ion Etching (LIRE), Vacum 46 Nr 12, (1995).
- [9] Dumania P., Grabiec P., Domański K., Hudek H. I Rangelow I.W.: Advanced Etching Techniques for Microfabication – Workshop Microtechnology and Thermal Problems in Electronics. Zakopane 21-27 wrzesień 1998.
- [10] „μ-DiaGene: nucleic acid micro-sequencing in diamond” EU Proposal PL 930 782 1998
- [11] Mitura, K. George, D. Colling, J. Hassard “Data acquisition software, and theapplication of computing to DNA sequencing”; Proc. of XI Symp. on Computer Sciance, Zakopane, 23rd-26th September 1998.
- [12] Rapiejko, A. Mitura, M. Cłapa, V. Sonnier, “Reaktywne Trawienie Jonowe Płytek Szafirowych”, EM 2000 Bydgoszcz 24-26 maja 2000
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BOS1-0011-0020